[发明专利]制备电解铜箔的电解装置和该装置制得的电解铜箔无效
申请号: | 01801329.5 | 申请日: | 2001-04-23 |
公开(公告)号: | CN1380915A | 公开(公告)日: | 2002-11-20 |
发明(设计)人: | 谷口和子;土桥诚;酒井久雄;原保次 | 申请(专利权)人: | 三井金属鉱业株式会社 |
主分类号: | C25D21/16 | 分类号: | C25D21/16 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 白益华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了一种具有循环系统的电解装置,在电解槽中电解组成经调节的添加了硫脲的硫酸铜溶液,经过电解制得电沉积铜箔,从电解槽中排出的铜浓度低的硫酸铜溶液被送入铜溶解槽作为硫酸用于溶解铜,制得铜浓度高的硫酸铜溶液,向该溶液中添加添加剂制备组成经调节的硫酸铜溶液,将该溶液再一次进行电解,其特征在于还提供一循环过滤装置,它能用粒状活性炭在特定条件下对铜浓度低的硫酸铜溶液进行循环过滤30分钟或更长时间,或者还提供一具有含粉状活性炭的滤器的超滤装置。该电解装置通过除去铜电解过程中的硫脲分解产物,而得以连续制备电解铜箔。 | ||
搜索关键词: | 制备 电解 铜箔 装置 | ||
【主权项】:
1.一种电解装置,包括循环硫酸铜溶液的路径,该路径用于进行以下步骤:在电解槽中对组成经调节的加了硫脲的硫酸铜溶液进行电解,由此制备电解铜箔;在完成电解之后,把从电解槽中排出的铜浓度低的硫酸铜溶液,即用过的溶液送入铜溶解槽中,用作硫酸溶液来溶解铜,制得铜浓度高的硫酸铜溶液;向所述铜浓度高的硫酸铜溶液中加入添加剂,制得组成经调节的硫酸铜溶液;将所述组成经调节的硫酸铜溶液加入电解槽中,再一次用作电解液;其中,在从已完成了电解的电解槽中流出的用过的溶液用作硫酸溶液来溶解铜的铜溶解槽的前面的位置,具有循环过滤装置,该装置用400-500kg的粒状活性炭以200-500升/分钟的流量对用过的溶液进行循环过滤处理30分钟或更长时间。
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