[发明专利]深亚微米互补型金属氧化半导体的交指形状多层电容器结构有效

专利信息
申请号: 01800844.5 申请日: 2001-03-29
公开(公告)号: CN1386304A 公开(公告)日: 2002-12-18
发明(设计)人: T·索拉蒂;V·瓦图亚 申请(专利权)人: 皇家菲利浦电子有限公司
主分类号: H01L27/08 分类号: H01L27/08;H01L29/92
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 罗朋,王忠忠
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 电容器包含第一层面的导电平行线;至少一个第二个层面的导电平行线,放置在第一层面之上,第一和第二层面的线被安排在垂直的排中;放置在第一和第二层面的导线之间的介电层;至少一个连接每排的线的交点,藉此形成垂直的电容器的平行阵列电容器板;和形成电容器的端子的电相反的节点,平行阵列的垂直电容器板以交替的方式电连接到相对节点以便板有交替的电极性。
搜索关键词: 微米 互补 金属 氧化 半导体 形状 多层 电容器 结构
【主权项】:
1.电容器(20)包含:第一层面(L1)的导电平行线(22);至少一个第二个层面(L2)的导电平行线(23),放置在第一层面(L1)之上,第一和第二层面(L1,L2)的线(22,23)被安排在垂直的排中;放置在第一和第二层面(L1,L2)的导线(22,23)之间的介电层(27);至少一个连接每排的线(22,23)的交点(30),藉此形成垂直的电容器的平行阵列电容器板(33);和形成电容器(20)的端子的电相反的节点(A,B),平行阵列的垂直电容器板(33)以交替的方式电连接到相对节点(A,B)以便板(33)有交替的电极性。
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