[实用新型]一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置无效
申请号: | 01247041.4 | 申请日: | 2001-09-14 |
公开(公告)号: | CN2496878Y | 公开(公告)日: | 2002-06-26 |
发明(设计)人: | 赵玉清 | 申请(专利权)人: | 陕西百纳科技发展有限责任公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 西安新思维专利事务所有限公司 | 代理人: | 徐平 |
地址: | 710061 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置,包括离子发生器和离子引出装置,离子发生器包括离子原及产生电离作用的阴极和阳极,阴极和阳极外部分别设置有水冷装置,阴极表面为阴极靶面,阳极为筒状放电室,离子引出装置包括设置于放电室顶部的引出栅极。本实用新型电离效率高,离子可控制,所形成膜的均匀性和致密性高、附着力强。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 工业生产 制备 薄膜 离子源 装置 | ||
【主权项】:
1、一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置,包括离子发生器和离子引出装置,所述离子发生器包括离子原及产生电离作用的阴极(14)和阳极(4),所述阴极(14)和阳极(4)外部分别设置有水冷装置(16)和(3),其特征在于:所述阴极(14)表面为阴极靶面(12),所述阳极为筒状放电室(9),所述离子引出装置包括设置于放电室(9)顶部的引出栅极(2)。
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