[实用新型]一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置

权利要求书

1、一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置，包括离子发生器和离子引出装置，所述离子发生器包括离子原及产生电离作用的阴极(14)和阳极(4)，所述阴极(14)和阳极(4)外部分别设置有水冷装置(16)和(3)，其特征在于：所述阴极(14)表面为阴极靶面(12)，所述阳极为筒状放电室(9)，所述离子引出装置包括设置于放电室(9)顶部的引出栅极(2)。

2、如权利要求1所述的一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置，其特征在于：所述的离子源为固体离子源装置，其包括产生离子的阴极(14)，所述固体离子源装置还包括引弧装置和弧斑束缚磁场(13)，所述引弧装置包括可与阴极靶面(12)接触引弧的引弧杆(10)，所述引弧杆(10)与步进电机(11)相连，所述弧斑束缚磁场(13)设置于阴极(14)外部。

3、如权利要求2所述的一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置，其特征在于：所述弧斑束缚磁场(13)由聚弧线圈构成。

4、如权利要求1或2所述的一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置，其特征在于：所述离子引出装置的引出栅极(2)外端设置有电磁滤质器(1)。

5、如权利要求4所述的一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置，其特征在于：所述离子引出装置出口处设置有电场扫描装置和预偏装置(15)。

6、如权利要求5所述的一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置，其特征在于：所述阴极靶面(12)处设置有靶面自动修磨器，所述靶面修磨器包括设置于铣刀夹头(8)上的铣刀(5)及带动铣刀的步进电机(7)和汽缸(6)。

7、如权利要求6所述的一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置，其特征在于：所述靶面自动修磨器包括可带动阴极靶面(12)升降、与升降电机(20)相连的阴极靶升降夹持装置(19)及可带动阴极靶面(12)旋转与旋转电机(18)相连的旋转轴(17)。

8、如权利要求7所述的一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置，其特征在于：所述阴极(14)、阳极(4)为石墨或金属材料，所述引出栅极(2)为钼材料。