[发明专利]改善有机蒸发镀膜成膜性能的方法无效
| 申请号： | 01111412.6 | 申请日： | 2001-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN1369921A | 公开（公告）日： | 2002-09-18 |
| 发明（设计）人： | 初国强;刘星元;刘云;王立军 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H05B33/10 |
| 代理公司： | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人： | 李恩庆 |
| 地址： | 130022 *** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明属于电致发光领域,是一种有机电致发光器件的制作方法。本发明是在现有的真空热蒸发镀制有机层的方法中,采取一种辅助方法,用来增加有机分子能量,加大分子迁移率,减少或消除有机层柱状结构的形成。所述的辅助方法,包括离子沉积和电场沉积方法,是在蒸发镀膜机内增度离子原或电场装置。本发明可以增加有机层聚集密度,改善有机层的成膜性能,进而提高发光器件的寿命和质量。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 有机 蒸发 镀膜 性能 方法 | ||
【主权项】：
1、一种改善有机蒸发镀膜成膜性能的方法，其特征是在有机蒸发镀膜成膜方法上，采用一种辅助沉积方法，所用的方法包括增加蒸发分子的能量，加大分子的迁移率，和轰击有机层膜，抑制、减少和消除有机层柱状结构的形成；所述的方法具体地是在蒸发镀膜的密闭容器内，增设一种装置，该装置使蒸发源上被蒸发的有机分子能量增加，同时轰击有机层，给有机层分子提供额外的激活能。
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