[发明专利]将光栅从静电放电中隔开的方法无效
| 申请号： | 01111225.5 | 申请日： | 2001-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN1319783A | 公开（公告）日： | 2001-10-31 |
| 发明（设计）人： | S·D·弗兰德斯;D·S·奥格雷迪;J·G·斯莫林斯基 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;H01L21/30 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳,王忠忠 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光栅即光掩模,其围绕腐蚀进入排列在衬底上的光阻挡材料中的集成电路图形的引导带即不连续性,提供了降低ESD的装置。引导带的宽度最好约为1－50mm。引导带借助于中断电荷行进路径和将关键图形化区域隔离于电荷运动而降低了ESD。引导带的腐蚀可以容易地组合到腐蚀集成电路图形过程中的制造方案中。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 静电 放电 隔开 方法 | ||
【主权项】：
1．一种光刻掩模，它包含：透光的衬底；满铺在所述衬底上的光阻挡材料层，所述光阻挡材料被图形化和腐蚀，以提供集成电路的图象；以及围绕图象的所述光阻挡材料层中的不连续性。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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