[发明专利]一种三维微结构的制作方法及其曝光装置无效
| 申请号： | 01108436.7 | 申请日： | 2001-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN1385759A | 公开（公告）日： | 2002-12-18 |
| 发明（设计）人： | 曾红军;陈波;杜春雷;郭履容 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/22 | 分类号： | G03F7/22;G02B27/22 |
| 代理公司： | 成都信博专利代理有限责任公司 | 代理人： | 张一红,王庆理 |
| 地址： | 61020*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种三维微结构的制作方法及其使用的曝光装置。该方法利用计算机产生的掩模图形对感光材料进行重复曝光后,移动曝光台,对感光材料的不同区域在进行曝光;最后显影,形成任意连续三维微结构。该方法所使用的曝光装置包括计算机、液晶光阀、投影镜头和曝光台。本发明能够制作总体面积大的微结构元器件,避免了传统曝光技术中昂贵费时的制版工艺,降低了微结构制作费用,且进一步提高了制作效率和制作精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 三维 微结构 制作方法 及其 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1、一种三维微结构的制作方法，其特征在于通过以下步骤完成：①通过计算机(5)控制生成实时掩模图形；②利用生成的实时掩模图形对感光材料(3)进行第一次曝光，获得n＝1次曝光的曝光量累积；③固定曝光台(4)，刷新实时掩模图形，对感光材料(3)进行第二次曝光，获得n＝2次曝光的曝光量累积；④重复②～③的步骤，使曝光次数足够大，获得n＝N次曝光的曝光量累积；⑤移动曝光台(4)，使感光材料(3)的另一曝光区域处于投影曝光镜头(2)之下，重复①～④的步骤；⑥显影，形成任意连续三维微结构。
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