[发明专利]一种三维微结构的制作方法及其曝光装置

权利要求书

1、一种三维微结构的制作方法，其特征在于通过以下步骤完成：

①通过计算机(5)控制生成实时掩模图形；

②利用生成的实时掩模图形对感光材料(3)进行第一次曝光，获得

  n＝1次曝光的曝光量累积；

③固定曝光台(4)，刷新实时掩模图形，对感光材料(3)进行第二

  次曝光，获得n＝2次曝光的曝光量累积；

④重复②～③的步骤，使曝光次数足够大，获得n＝N次曝光的曝光量

  累积；

⑤移动曝光台(4)，使感光材料(3)的另一曝光区域处于投影曝光

  镜头(2)之下，重复①～④的步骤；

⑥显影，形成任意连续三维微结构。

2、一种三维微结构的制作方法所使用的曝光装置，包括投影曝光镜头(2)、曝光台(4)和计算机(5)；其特征在于：作为实时掩模的电寻址(或光寻址)液晶光阀(1)置于投影曝光镜头(2)的上方，计算机(5)控制产生的实时掩模图形通过电寻址(或光寻址)液晶光阀(1)的通光单元，再经投影曝光镜头(2)精缩至焦平面，曝光镜头(2)的焦平面与感光材料(3)的感光面重合，感光材料(3)放置于曝光台(4)上。

3、根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于：电寻址(或光寻址)液晶光阀(1)的通光单元的开关由计算机控制。

4、根据权利要求2和3所述的曝光装置，其特征在于：放置感光材料(3)的曝光台(4)可移动，感光材料(3)的不同区域均可接受曝光。