[发明专利]曝光方法及装置、曝光装置的制造方法以及器件制造方法无效
| 申请号： | 01101754.6 | 申请日： | 2001-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN1319785A | 公开（公告）日： | 2001-10-31 |
| 发明（设计）人： | 西健尔 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 季向冈 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 为了制造曝光装置,在由平台、立柱、支撑板装配成框架机构后,设置具有照明系统的子室,在支撑板上搭载投影光学系统PL。与该作业并行,进行线网室及线网载置台系统的安装调整,以及晶片室及晶片载置台系统的安装调整。在搭载了投影光学系统的框架机构上以组件方式组入线网室及晶片室,在线网室、晶片室的内部配置供给透过曝光光的净化气体的配管等,用具有可挠性的膜状软性遮蔽部件密闭投影光学系统和晶片室之间的空间。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 制造 以及 器件 | ||
【主权项】：
1．一种曝光装置，是利用曝光光束经由第1物体曝光第2物体的曝光装置，其特征在于具有：框架；收纳保持并移动上述第1物体的第1载置台系统，同时相对于上述框架可装拆地安装的第1载置台室；收纳保持并移动上述第2物体的第2载置台系统，同时相对于上述框架可装拆地安装的第2载置台室。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康，未经株式会社尼康许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/01101754.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
