[发明专利]使用超临界二氧化碳法从衬底上去除光刻胶及残渣

摘要

一种从衬底上去除光刻胶和残渣的方法,它起始于保持超临界二氧化碳、胺和溶剂与所述衬底接触,使得所述胺和溶剂至少部分溶解光刻胶和残渣。优选地,所述胺是叔胺。优选地,所述溶剂选自DMSO、EC、NMP、乙酰基丙酮、BLO、醋酸、DMAC、PC和它们的混合物。然后,把光刻胶和残渣从衬底附近去除。优选地,该方法继续冲洗步骤,其中,衬底在超临界二氧化碳和冲洗剂中冲洗。优选地,冲洗剂选自水、醇、二者的混合物以及丙酮。在一种供选择的实施方案中,胺和溶剂用含水氟化物代替。

主权项

1.一种处理衬底的方法，它包括下列步骤：a.保持超临界二氧化碳和含水氟化物与衬底接触，所述衬底具有承载选自光刻胶、光刻胶残渣、蚀刻残渣和它们的组合的材料的二氧化硅表面，使得含水氟化物从所述材料掏蚀二氧化硅表面，从而使所述材料变成被掏蚀的材料；b.保持水和超临界二氧化碳与被掏蚀的材料接触，使得被掏蚀的材料与二氧化硅表面分离，从而使被掏蚀的材料变成被分离的材料；和c.从衬底附近去除被分离的材料。