[发明专利]检测光纤缺陷的方法有效
申请号: | 00803865.1 | 申请日: | 2000-12-14 |
公开(公告)号: | CN1340155A | 公开(公告)日: | 2002-03-13 |
发明(设计)人: | 东藤慎平;仲恭宏;相川明 | 申请(专利权)人: | 古河电气工业株式会社 |
主分类号: | G01M11/00 | 分类号: | G01M11/00;G01N21/896 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 蹇炜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 在用于检测要测量光纤缺陷的缺陷检测方法中,激光束从光纤光轴横向方向照射到光纤上以检查透过光纤内部并且散射的前向散射光线光强度分布,和根据光强度分布模式检测要测量光纤的缺陷,光强度分布模式服从于具有弱平滑度的平滑过程和具有强平滑度的平滑过程分别形成第一和第二模式,根据第一和第二模式之间的差或比值形成判断模式,通过评价判断模式幅度检测要测量光纤的缺陷。光强度分布模式服从于傅立叶变换以形成频谱模式,通过利用双对数轴评价频谱模式,对频谱模式具有高贡献率的判断曲线被应用于频谱模式以查找频谱模式与判断曲线之间的偏差,根据该偏差的幅度检测要测量光纤的缺陷。 | ||
搜索关键词: | 检测 光纤 缺陷 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于检测光纤缺陷的缺陷检测方法,其中激光束从要测量光纤的轴的横向方向照射在所述光纤上,以检查透过所述光纤内部并且散射的前向散射光线的光强度分布,根据光强度分布模式检测所述要测量光纤的缺陷,其中:所述光强度分布模式服从具有弱平滑度的平滑过程和具有强平滑度的平滑过程以分别形成第一和第二模式,和根据所述第一和第二模式之间的差形成判断模式,通过评价所述判断模式的幅度检测所述要测量光纤的缺陷。
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