[发明专利]透明导电层叠片,及其制造方法和采用透明导电层叠片的显示器件有效
| 申请号： | 00800674.1 | 申请日： | 2000-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN1302442A | 公开（公告）日： | 2001-07-04 |
| 发明（设计）人： | 原宽;坪井诚治 | 申请（专利权）人： | 帝人株式会社 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;B32B7/02;C23C14/08;C23C14/34;H01L31/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 陈霁,叶恺东 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种在热塑性聚合物薄膜构成的透明基片上,以In—Sn—O为主的晶体透明导电膜得透明导电层叠片。透明导电膜(ITO膜)晶体部分有特定的晶体结构,(222)晶面或(440)晶面X－射线衍射强度最大。且(440)晶面X－射线衍射强度与(222)晶面的X－射线衍射强度比[x440/222]在0.2至2.5范围。层叠片有低的电阻率。可用于液晶显示、电致发光器件、触摸面板等的电极材料。控制溅射中薄膜制作的气氛;和薄膜制作后在特定条件下热处理,能制造透明导电层叠片。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电 层叠 及其 制造 方法 采用 显示 器件 | ||
【主权项】：
1．透明导电层叠片，包含基本由In-Sn-O组成的晶体透明导电膜和热塑性聚合物薄膜构成的透明基片，其特征在于导电薄膜晶体部分(222)、或(440)晶面的X-射线衍射强度最大，且(晶面X-射线衍射强度与(222)晶面的X-射线衍射强度比[X440/222]在0.2至2.5之间。
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