[实用新型]一种干涉光刻多光束形成系统无效
| 申请号： | 00244922.6 | 申请日： | 2000-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN2449258Y | 公开（公告）日： | 2001-09-19 |
| 发明（设计）人： | 冯伯儒;张锦;蒋世磊;宗德蓉;苏平 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/22 | 分类号： | G03F7/22;G02B27/60 |
| 代理公司： | 中国科学院成都专利事务所 | 代理人： | 张一红 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种干涉光刻多光束形成系统,属于对微细图形干涉光刻系统的改进。其特征是激光器发出的光经扩束、空间滤波和准直之后照射到一个梯形棱镜上,经该棱镜折射形成五束在一定距离处相迭加的平行光,这些光束由区域性选择开启的快门控制,在涂有感光材料的基片上产生双光束、三光束、四光束和五光束干涉光刻图形。该系统结构简单、成本低,所产生的多光束之间的光程差小。该系统可广泛用于光电子、微电子器件、大屏幕显示器和场发射器件阵列的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 干涉 光刻 光束 形成 系统 | ||
【主权项】：
1．一种干涉光刻多光束形成系统，包括激光器(1)、扩束器(2)、空间滤波器(3)和准直器(4)，激光器(1)发出的激光经扩束器(2)、空间滤波器(3)和准直器(4)形成平行光，其特征在于：该平行光经光阑(5)进入梯形棱镜(6)后折射出可在感光材料基片(7)上产生不同周期性结构的干涉光刻图形的多束激光。
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