[实用新型]一种干涉光刻多光束形成系统无效
| 申请号： | 00244922.6 | 申请日： | 2000-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN2449258Y | 公开（公告）日： | 2001-09-19 |
| 发明（设计）人： | 冯伯儒;张锦;蒋世磊;宗德蓉;苏平 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/22 | 分类号： | G03F7/22;G02B27/60 |
| 代理公司： | 中国科学院成都专利事务所 | 代理人： | 张一红 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 干涉 光刻 光束 形成 系统 | ||
【权利要求书】：
1．一种干涉光刻多光束形成系统，包括激光器(1)、扩束器(2)、空间滤波器(3)和准直器(4)，激光器(1)发出的激光经扩束器(2)、空间滤波器(3)和准直器(4)形成平行光，其特征在于：该平行光经光阑(5)进入梯形棱镜(6)后折射出可在感光材料基片(7)上产生不同周期性结构的干涉光刻图形的多束激光。
2．根据权利要求1所述的干涉光刻多光束形成系统，其特征在于：光阑(5)为可区域性选择开启的光阑。
3．根据权利要求1或者2所述的干涉光刻多光束形成系统，其特征在于：梯形棱镜(6)也可由平晶(6)和直角棱镜(8)、(9)、(10)、(11)组合而成。
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