[实用新型]一种激光干涉光刻系统无效
| 申请号： | 00223444.0 | 申请日： | 2000-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN2432001Y | 公开（公告）日： | 2001-05-30 |
| 发明（设计）人： | 张锦;冯伯儒;蒋世磊;候德胜;宗德蓉;苏平 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | B23K26/18 | 分类号： | B23K26/18 |
| 代理公司： | 中国科学院成都专利事务所 | 代理人： | 张一红,王庆理 |
| 地址： | 61020*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种激光干涉光刻系统,属于对微细图形光刻系统的改进。其特征是激光器发出的光通过扩束准直和针孔空间滤波器后,由分光镜和反射镜装置分成三束平行光,然后相交叠加产生干涉;可通过快门挡住其中的一束,并通过转动机构使感光材料基片任意转动,可进行多光束多次干涉曝光,用于产生多种不同周期结构的孔阵和线阵图形。该光刻系统具有高分辨率、大视场、长焦深等优点。可用于微电子、光电子器件和大屏幕显示器、场发射器等的制造。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 干涉 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1、一种激光干涉光刻系统，包括激光器(1)、分光镜(3)、反射镜(4)、分束器(7)、反射镜(8)、快门(11)和(13)，其特征在于：主光路顺序安置激光器(1)、将激光转换为平行光束的扩束准直空间滤波装置(2)、快门(13)、以及将激光分为分别到达基片(6)的反射光束①和透射光束②的分光镜(3)；反射光束①光路上安置全反射镜(4)和衰减器(5)；透射光束②光路上顺序安置将透射光束②分为反射光束③和透射光束②的分束器(7)、衰减器(10)和快门(11)；反射光束③光路上放置反射镜(8)和衰减器(9)；在两次曝光之间使感光材料基片(6)转动一定角度的转动机构(12)连接基片(6)。
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