[实用新型]一种激光干涉光刻系统无效
| 申请号： | 00223444.0 | 申请日： | 2000-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN2432001Y | 公开（公告）日： | 2001-05-30 |
| 发明（设计）人： | 张锦;冯伯儒;蒋世磊;候德胜;宗德蓉;苏平 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | B23K26/18 | 分类号： | B23K26/18 |
| 代理公司： | 中国科学院成都专利事务所 | 代理人： | 张一红,王庆理 |
| 地址： | 61020*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 激光 干涉 光刻 系统 | ||
【权利要求书】：
1、一种激光干涉光刻系统，包括激光器(1)、分光镜(3)、反射镜(4)、分束器(7)、反射镜(8)、快门(11)和(13)，其特征在于：
主光路顺序安置激光器(1)、将激光转换为平行光束的扩束准直空间滤波装置(2)、快门(13)、以及将激光分为分别到达基片(6)的反射光束①和透射光束②的分光镜(3)；
反射光束①光路上安置全反射镜(4)和衰减器(5)；
透射光束②光路上顺序安置将透射光束②分为反射光束③和透射光束②的分束器(7)、衰减器(10)和快门(11)；
反射光束③光路上放置反射镜(8)和衰减器(9)；
在两次曝光之间使感光材料基片(6)转动一定角度的转动机构(12)连接基片(6)。
2、根据权利要求1所述的激光干涉光刻系统，其特征在于：分光镜(3)和分束器(7)是可调节激光束①、②、③的强度的可变分束器。
3、根据权利要求1或2所述的激光干涉光刻系统，其特征在于：全反射镜(4)和(8)是改变光束①、②、③之间的夹角的可移动反射镜。
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