[发明专利]用于检查光掩模上形成的曝光图形的方法无效
| 申请号： | 00136105.8 | 申请日： | 2000-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN1306225A | 公开（公告）日： | 2001-08-01 |
| 发明（设计）人： | 宫川诚司 | 申请（专利权）人： | 日本电气株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 穆德骏,方挺 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种参考检查数据来检查曝光图形的方法,其中掩模图形具有重叠区域,该重叠区域受到电子束的双重曝光,从而改变了穿过重叠区域的互连部分的宽度。该方法对检查数据中有关穿过重叠区域的互连部分的宽度的数据进行修改,以改变互连部分的宽度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 检查 光掩模上 形成 曝光 图形 方法 | ||
【主权项】：
1．一种参考检查数据检查曝光图形的方法，曝光图形具有重叠区域，该重叠区域受到电子束的双重曝光，从而改变了穿过重叠区域的互连部分的宽度，其中对检查数据中有关穿过重叠区域的互连部分的宽度的数据进行修改，以改变互连部分的宽度。
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