[发明专利]用于检查光掩模上形成的曝光图形的方法

权利要求书

1．一种参考检查数据检查曝光图形的方法，曝光图形具有重叠区域，该重叠区域受到电子束的双重曝光，从而改变了穿过重叠区域的互连部分的宽度，

其中对检查数据中有关穿过重叠区域的互连部分的宽度的数据进行修改，以改变互连部分的宽度。

2．如权利要求1所述的方法，其中如果作为曝光图形的掩模图形是在负型抗蚀剂光掩模上形成，则修改在检查数据中有关穿过重叠区域的互连部分的宽度的数据，以增加互连部分的宽度。

3．如权利要求1所述的方法，其中如果作为曝光图形的掩模图形是在正型抗蚀剂光掩模上形成，则修改在检查数据中有关穿过重叠区域的互连部分的宽度的数据，以减小互连部分的宽度。

4．如权利要求1所述的方法，其中所述互连部分由多个曝光图形的互连的AND操作来定义。

5．如权利要求1所述的方法，其中从预定缺陷标准中计算出检查数据中互连部分的宽度变化量。

6．如权利要求1所述的方法，其中通过根据多组电子束曝光数据进行的多个电子束曝光，分别形成多个曝光图形，并且修改多组电子束曝光数据的每一组数据，以改变穿过重叠区域的互连部分的宽度。

7．如权利要求6所述的方法，其中如果作为曝光图形的掩模图形形成在负或正型抗蚀剂光掩模上，则修改多组电子束曝光数据的每一组数据，以增加穿过重叠区域的互连部分的宽度。

8．如权利要求6所述的方法，其中如果作为曝光图形的掩模图形形成在负或正型抗蚀剂光掩模上，则修改多组电子束曝光数据的每一组数据，以减小穿过重叠区域的互连部分的宽度。

9．如权利要求6所述的方法，其中所述互连部分由多个曝光图形的互连的AND操作来定义。

10．如权利要求6所述的方法，其中从预定缺陷标准中计算出检查数据中的互连部分的宽度变化量。

11．一种参考检查数据检查曝光图形的方法，其中曝光图形具有重叠区域，该重叠区域受到电子束的双重曝光，从而改变了穿过重叠区域的互连部分的宽度，并且通过按照多组电子束曝光数据进行的多个电子束曝光，分别形成多个曝光图形，

其中对多组电子束曝光数据中的每一组数据进行修改，以改变穿过重叠区域的互连部分的宽度。

12．如权利要求11所述的方法，其中如果作为曝光图形的掩模图形是在负或正型抗蚀剂光掩模上形成，则修改多组电子束曝光数据中的每一组数据，以增加穿过重叠区域的互连部分的宽度。

13．如权利要求11所述的方法，其中如果作为曝光图形的掩模图形是在负或正型抗蚀剂光掩模上形成，则修改多组电子束曝光数据中的每一组数据，以减小穿过重叠区域的互连部分的宽度。

14．如权利要求11所述的方法，其中互连部分由多个曝光图形的互连的AND操作来定义。

15．如权利要求11所述的方法，其中从预定缺陷标准中计算出检查数据中互连部分的宽度变化量。

16．如权利要求11所述的方法，其中对在检查数据中有关穿过重叠区域的互连部分宽度的数据进行修改，以改变互连部分的宽度。

17．如权利要求16所述的方法，其中如果作为曝光图形的掩模图形是在负型抗蚀剂光掩模上形成，则修改检查数据中有关穿过重叠区域的互连部分宽度的数据，以增加互连部分的宽度。

18．如权利要求16所述的方法，其中如果作为曝光图形的掩模图形是在正型抗蚀剂光掩模上形成，则修改检查数据中有关穿过重叠区域的互连部分宽度的数据，以减小互连部分的宽度。

19．如权利要求16所述的方法，其中互连部分由多个曝光图形的互连的AND操作来定义。

20．如权利要求16所述的方法，其中从预定缺陷标准中计算出检查数据中互连部分的宽度变化量。

21．一种参考检查数据检查曝光图形的方法，其中曝光图形具有重叠区域，该重叠区域受到电子束的双重曝光，从而改变了穿过重叠区域的互连部分的宽度，

其中对检查数据中有关穿过重叠区域的互连部分宽度的数据进行修改，以改变互连部分的宽度。