[发明专利]光学膜积层芯片的制法无效

专利信息
申请号: 00135967.3 申请日: 2000-12-19
公开(公告)号: CN1300955A 公开(公告)日: 2001-06-27
发明(设计)人: 竹本常二 申请(专利权)人: 住友化学工业株式会社
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘宗杰,叶恺东
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种制造光学膜积层芯片的方法,沿着与第三边(BC)相交的切断线及与第四边(AD)相交的第二切断线切断其第一边(AB)及第二边(DC)对其光轴平行或垂直的第一光学膜片(ABCD),获得第一光学膜切片(AEFCGH),其次,把得到的第一光学膜切片在第二光学膜带状体上积层,第一边(EF)及第二边(HG)沿着第二光学膜带状体的两缘边,同时把第二光学膜带状体沿第一光学膜切片的形状切断,得到光学膜积层体,最终切断它,得到光学膜积层芯片。
搜索关键词: 光学 膜积层 芯片 制法
【主权项】:
1.一种光学膜积层芯片的制法,它是由具有第一边(AB)、第二边(DC)、第三边(BC)及第四边(AD),其第一边(AB)及第二边(DC)相互平行、对其光轴(10)平行或垂直的第一光学膜片(3)和光轴(20)对其长度方向平行或垂直的第二光学膜带状体(21)制造第一光学膜(19)和第二光学膜(29)积层的方形光学膜积层芯片(19)的方法,其特征为:(ⅰ)获得第一光学膜(3),(ⅱ)沿着与第三边(BC)相交的第一切断线(C1)切断第一光学膜片(3),该切断线(C1)对第一边(AB)构成角度(φ1),其与第二光学膜的光轴(20)对在光学膜积层芯片(9)上的第一光学膜光轴(10)的相对角度(θ)或(θ+90°)相等,同时,对该切断线(C1)空出与第二光学膜带状体宽(W2)相等的距离、平行,沿着与第四边(AD)相交的切断线(C2)切断,获得具有沿着第一切断线(C1)切断形成的第一边(EF)、沿着第二切断线(C2)切断形成的第二边(HG)、与第一光学膜片(3)的第三边(BC)的一部分相当的第三边(FC)以及与第一光学膜片(3)的第四边(AD)的一部分相当的第四边(AH),而第一边(EF)及第二边(HG)对其光轴(10)构成(θ)或(θ+90°)角的第一光学膜切片(4);(ⅲ)获得的第一光学膜切片(4)在第二光学膜带状体(21)上积层,使第一光学膜切片(4)的第一边(EF)及第二边(HG)沿着光学膜带状体(21)的两缘边(IJ,KL),同时,沿着光学膜切片(4)的形状切断第二光学膜带状体(21),获得具有与第一光学膜切片(4)的第一边(EF)相当的第一边,与第一光学膜切片(4)的第二边(HG)相当的第二边(HG),与第一光学膜切片(4)的第三边(FC)相当的第三边(FC)以及与第一光学膜切片(4)的第四边(AH)相当的第四边(AH),而第一边(EF)及第二边(HG)对第二光学膜的光轴(20)平行或垂直的光学膜积层体(5);(ⅳ)切断获得的光学膜积层体(5)
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