[发明专利]光学膜积层芯片的制法

说明书

本发明涉及光学膜积层芯片的制法。

在偏振膜，相位差膜等典型的光学膜作为构成液晶显示器件的光学部件之一是重要的。例如在STN(超扭曲向列)型液晶显示器件等，使用第一光学膜(例如偏振膜)(19)和第二光学膜(例如相位差膜)(29)积层的方形光学膜积层芯片(9)。

在光学膜积层芯片中，各光学膜的光轴(在偏振膜是吸收轴，在相位差膜是滞相轴)所呈角度在得到的液晶显示器件的显示性能中是重要的，如果这与设计值稍有不同，则得到的液晶显示器件不能发挥预定的性能。因此在光学膜积层芯片中必须严格控制偏振膜的吸收轴(10)对该基准线的角度(θ₁)和相位差膜的滞相轴(20)对该基准线的角度(θ₂)。

通常用光学膜积层芯片(9)的长边或短边作为基准边(91)设定基准线与其平行。如图12所示，在方形的光学膜积层芯片(9)中，偏振膜的吸收轴(10)和相位差膜的滞相轴(20)对基准线的角度(θ₁)和(θ₂)是从偏振膜一侧看以逆时针旋转为正表示的角度。

这角度(θ₁)及(θ₂)与在光学膜积层芯片中的第二光学膜的光轴(20)对第一光学膜的光轴(10)的相对角度(θ)之间具有用式(1)

θ=θ₂-θ₁……(1)

所示的关系式。这里相对角度(θ)是从光学膜积层芯片的第一光学膜(例如偏振膜)一侧看以逆时针旋转为正表示的角度。

这种光学膜积层芯片(9)通常由偏振膜带状体(11)及相位差膜带状体(21)制造，不过因为这些带状体(11、12)通常其光轴(吸收轴、滞相轴)(10、20)对长度方向是平行或垂直的，所以在角度(θ₁)的绝对值不是0°或90°时，用于制造方形的光学膜积层芯片(9)用的偏振膜(19)应从偏振膜带状体(11)斜切，此外在角度(θ₂)的绝对值不是0°或90°时，用于制造方形光学膜积层芯片(9)的相位差膜应从相位差带状体(21)斜切。

作为这种光学膜积层芯片(9)的制法大家知道有切断偏振膜和相位差积层的平行四边形的光学积层片(5)的制法(特开平11～231129号公报)。在这种制法中光学积层体(5)从偏振膜带状体(11)和相位差膜带状体(21)制造。具体讲，例如如图13所示，在光学膜积层体(5)中相对两边(AB、DC)对偏振膜的吸收轴(10)平行，相对的其它两边(BC、AD)对位差膜的滞相轴(20)平行地制造。

根据这种制法，纵横尺寸、大小、吸收轴对基准边的角度(θ₁)及滞相轴对基准边的角度(θ₂)不同，而滞相轴对吸收轴的相对角度(θ)共同的多种光学膜积层芯片(9)可以从一种光学膜积层体(5)切出制造。

可是如果在这种制法中，如图13所示，作为偏振膜带状体，用其吸收轴对长度方向平行的，作为相位差膜带状体，用其滞相轴对长度方向平行的，则在滞相轴对吸收轴的相对角度(θ)在40°以下或140°以上时，光学膜积层体(5)的形状有成为细长的倾向，处理困难。

作为解决这种问题的方法，如图14所示，用其滞相轴对长度方向垂直的相位差膜带状体的方法也在同一公报上登载。根据其制法，即使相对角度(θ)在40°以下或140°以上，光学膜积层体(5)也不是细长的，比较容易处理。

可是因为在预定的光学膜积层芯片(9)的相对角度(θ)是各种各样的，每当用此方法更换预定的光学膜积层芯片中的相对角度(θ)时，作为相位差膜带状体(21)必须改用其滞相轴对长度方向平行和垂直的，比较麻烦(图13、14)。

本发明者研究，应当开发一种方法，即使光学膜积层芯片(9)中相对角度(θ)在40°以下或140°以上也不用改换相位差膜带状体，可以经由处理比较容易的光学膜积层体制造光学膜积层芯片。其结果发现：第一边及第二边对其吸收轴平行或垂直的偏振膜沿着专门的切断线切断后，在相位差膜带状体上积层的同时，把该相位差带状体沿该偏振膜切断得到的光学膜带状体，即使预定的光学膜积层芯片中的相对角度(θ)更换成40°以下或140°以上也能形成比较容易处理的形状，可以不必更换相位差膜带状体进行制造。此外发现通过切断由这种方法获得的光学膜积层体(5)可以高效率获得预定的光学膜积层芯片(9)。