[发明专利]激光装置和激光退火方法有效
| 申请号： | 00126012.X | 申请日： | 2000-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN1285423A | 公开（公告）日： | 2001-02-28 |
| 发明（设计）人： | 笠原健司;河崎律子;大谷久;田中幸一郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | C30B35/00 | 分类号： | C30B35/00;C30B33/02;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 梁永,傅康 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
为了使用激光束照射的方法晶化非晶半导体膜,使用了激光束照射非晶半导体膜的上表面和后表面。在此情形下,应用于上表面的激光束的有效能量强度Io与应用于后表面的激光束的有效能量强度Io'满足关系0 | ||
| 搜索关键词： | 激光 装置 退火 方法 | ||
【主权项】：
1．一种激光装置，包括：一个激光源；用于将发射自激光源的激光束导引到被处理物体的上表面和后表面上的一个光学系统；和一个用于支持所述物体的平台，其中所述激光装置进一步包括位于所述物体和所述平台之间的反射器，且要被导引到物体的后表面上的激光束在到达物体的后表面之前在反射器处被反射。
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