[发明专利]降低基片依赖性的试剂无效
| 申请号： | 00122256.2 | 申请日： | 2000-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN1278076A | 公开（公告）日： | 2000-12-27 |
| 发明（设计）人： | 浦野文良;片野直树;桐生知子 | 申请（专利权）人： | 和光纯药工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘金辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于降低基片依赖性的试剂,可用作制备半导体器件等的光刻胶组合物的成分,该试剂包括如下通式(1)所示化合物其中R41是氢原子或甲基,R42是氢原子、甲基、乙基或苯基,R43是含有1—6个碳原子的直链、支链或环状烷基,n是0或1。 | ||
| 搜索关键词： | 降低 依赖性 试剂 | ||
【主权项】：
1.一种用于降低光刻胶组合物的基片依赖性的试剂，包括如下通式[1]所示化合物：其中R41是氢原子或甲基，R42是氢原子、甲基、乙基或苯基，R43是含有1-6个碳原子的直链、支链或环状烷基，n是0或1。
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