[发明专利]降低基片依赖性的试剂

权利要求书

1.一种用于降低光刻胶组合物的基片依赖性的试剂，包括如下通式[1]所示化合物：其中R₄₁是氢原子或甲基，R₄₂是氢原子、甲基、乙基或苯基，R₄₃是含有1-6个碳原子的直链、支链或环状烷基，n是0或1。

2.如权利要求1所述的降低光刻胶组合物的基片依赖性的试剂，其中通式[1]所示化合物为乙醇酸甲酯、乙醇酸乙酯、乙醇酸正丙酯、乙醇酸异丙酯、乙醇酸正丁酯、乙醇酸异丁酯、乙醇酸叔丁酯、乙醇酸正戊酯、乙醇酸异戊酯、乙醇酸正己酯、乙醇酸环己酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、乳酸异丙酯、乳酸正丁酯、乳酸叔丁酯、乳酸正戊酯、乳酸异戊酯、3-羟基丙酸甲酯、3-羟基丙酸乙酯、3-羟基丙酸正丙酯、2-羟基丁酸甲酯、2-羟基丁酸乙酯、2-羟基丁酸正丙酯、2-羟基异丁酸甲酯、2-羟基异丁酸乙酯、3-羟基丁酸甲酯、3-羟基丁酸乙酯、3-羟基戊酸甲酯、3-羟基戊酸乙酯、扁桃酸甲酯、扁桃酸乙酯、扁桃酸正丙酯或扁桃酸异丙酯。

3.一种降低光刻胶组合物的基片依赖性的方法，包括加入如下通式[1]所示化合物作为降低基片依赖性的试剂：

其中R₄₁是氢原子或甲基，R₄₂是氢原子、甲基、乙基或苯基，R₄₃是含有1-6个碳原子的直链、支链或环状烷基，n是0或1。

4.如权利要求3所述降低光刻胶组合物的基片依赖性的方法，其中通式[1]所示化合物的用量相对于光刻胶组合物总量为0.5-30wt％。

5.如权利要求3所述降低光刻胶组合物的基片依赖性的方法，其中通式[1]所示化合物是乙醇酸甲酯、乙醇酸乙酯、乙醇酸正丙酯、乙醇酸异丙酯、乙醇酸正丁酯、乙醇酸异丁酯、乙醇酸叔丁酯、乙醇酸正戊酯、乙醇酸异戊酯、乙醇酸正己酯、乙醇酸环己酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、乳酸异丙酯、乳酸正丁酯、乳酸叔丁酯、乳酸正戊酯、乳酸异戊酯、3-羟基丙酸甲酯、3-羟基丙酸乙酯、3-羟基丙酸正丙酯、2-羟基丁酸甲酯、2-羟基丁酸乙酯、2-羟基丁酸正丙酯、2-羟基异丁酸甲酯、2-羟基异丁酸乙酯、3-羟基丁酸甲酯、3-羟基丁酸乙酯、3-羟基戊酸甲酯、3-羟基戊酸乙酯、扁桃酸甲酯、扁桃酸乙酯、扁桃酸正丙酯或扁桃酸异丙酯。

6.如权利要求3所述降低光刻胶组合物的基片依赖性的方法，其中通式[1]所示化合物是乙醇酸甲酯、乙醇酸乙酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、2-羟基丁酸甲酯、2-羟基丁酸乙酯、3-羟基丁酸甲酯、3-羟基丁酸乙酯、扁桃酸甲酯或扁桃酸乙酯。

7.如权利要求3所述降低光刻胶组合物的基片依赖性的方法，其中通式[1]所示的化合物是乙醇酸甲酯、乙醇酸乙酯、乳酸乙酯、3-羟基丁酸甲酯、3-羟基丁酸乙酯或扁桃酸乙酯。

8.如权利要求3所述降低光刻胶组合物的基片依赖性的方法，其中光刻胶组合物含有a)一种通过酸的作用发生化学变化而变成可溶于碱性显影水溶液的聚合物，b)一种酸产生剂。