[发明专利]磁记录介质用玻璃基板的制造方法无效
| 申请号： | 00118827.5 | 申请日： | 2000-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN1323027A | 公开（公告）日： | 2001-11-21 |
| 发明（设计）人： | 藤村明男;三浦博 | 申请（专利权）人： | 三井金属矿业株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;C09K3/14;C09G1/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨丽琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法,它包括在结晶化玻璃基板及表面化学强化性玻璃基板的精加工抛光工艺中,使用含有平均粒径D50为0.5μm或以下的CeO2类研磨材料为1重量%或以下的研磨液和研磨布,优选平均粒径D50为0.3μm或以下的CeO2类研磨材料为0.5重量%或以下的研磨液,优选硬质发泡聚氨酯研磨布,进行研磨,可以容易地得到表面粗糙度极低的,有平滑表面的磁记录介质用结晶化玻璃基板。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 玻璃 制造 方法 | ||
【主权项】：
1．磁记录介质用玻璃基板的制造方法，它是对磁记录介质用玻璃基板进行精加工抛光的工艺，其特征是，使用含有平均粒径D50为0.5μm或以下的CeO2类研磨材料为1重量％或以下的研磨液和研磨布进行研磨。
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