[发明专利]磁记录介质用玻璃基板的制造方法

说明书

本发明涉及磁记录介质用玻璃基板的制造方法，更详细地说，本发明涉及可生产表面均质，而且表面缺陷少，表面粗糙度极低的有平滑表面的磁记录介质用玻璃基板的制造方法。

随着磁盘记录装置的大容量化，为了提高记录密度，谋求降低磁头的浮上量，为了满足这种降低，表面平滑性优良，而且表面缺陷少的磁记录介质用基板是必须的材料。

作为表面平滑性优良的磁记录介质用基板，过去主要采用的是在铝合金上镀N-P，将该已镀层的主表面经过多阶段研磨得到的基板。

但是，近年来，在笔记本型个人电脑等可携带电脑中也采用了磁盘记录装置，因此，要求基板能够耐受因携带而带来的冲击。而且为了提高磁盘记录装置的应答速度，磁盘记录介质用基板必须以10000rpm的高速度旋转，因此需要有高强度的磁记录介质用基板，为了满足这种必要性，采用了玻璃基板。

作为这种磁记录介质用的玻璃基板，主要采用已通过表面化学强化提高强度的强化玻璃板，以及将熔融成型得到的玻璃板长时间保持于600-800℃高温下，使结晶相已部分析出的结晶化玻璃基板。

表面化学强化玻璃板，例如将熔融成型得到的表面化学强化性玻璃板进行研削、研磨加工以后，在硝酸钠、硝酸钾等熔融盐中浸渍，借此在表面形成压缩应力层而得到的提高了破坏强度的玻璃基板；而结晶化玻璃基板，例如是将熔融成型得到的非晶型玻璃，通过长时间保持于600-800℃高温下，成为40-80％结晶相和20-60％非结晶相共存的混合相，由此得到的玻璃基板。

但是，在上述的结晶化玻璃基板或表面化学强化性玻璃基板的研削、研磨加工工艺，特别是精加工的研磨工艺中，若采用公知的技术，即使用仿鹿皮型软质研磨布和含有百分之几的平均粒径0.5-2.0μmCeO₂类研磨材料的研磨液进行研磨时，由于使用研磨布而产生毛刷眼状的线状凸凹，因此只能得到不均匀的表面。另外，经表面化学强化性玻璃基板所能达到的限度是表面粗糙度在3.5埃左右，结晶化玻璃基板在4.5埃左右，而要得到磁记录介质用玻璃基板要求的表面粗糙度在3埃或以下是极为困难的。

本发明的目的是提供一种生产效率高的，经过研磨表面均匀，而且表面缺陷少，表面粗糙度极低，有平滑表面的磁记录介质用玻璃基板的制造方法。

本发明人对上述课题进行了精心研究，结果得知，按照公知的方法将磁记录介质用玻璃基板研磨加工成一定的厚度，根据需要进行抛光加工以后的精加工抛光工艺中，若研磨布优选使用发泡聚氨酯制的硬质研磨布，用含有极低浓度的极微细CeO₂类研磨材料的研磨液研磨时，意外地发现，能够很容易地生产出没有毛刷眼状的线状凸凹，表面均匀，缺陷少，而且表面粗糙度在3埃或以下的玻璃基板，从而完成了本发明。

也就是说，本发明的磁记录介质用玻璃基板的制造方法是对磁记录介质用玻璃基板进行精加工抛光的工艺，其特征是，采用含有D₅₀为0.5μm或以下的CeO₂类研磨材料的1％重量或以下的研磨液和研磨布进行研磨。

以下是本发明的详细说明。

根据本发明方法制造磁记录介质用的玻璃基板，只要是具有磁记录介质用基板所要求的强度，或者通过表面化学强化处理能获得磁记录介质用基板所要求的强度的任何玻璃基板均可，但是现有技术中优选使用结晶化玻璃基板及表面化学强化性玻璃基板。

本发明制造方法中进行精加工抛光使用的研磨材料是平均粒径D₅₀为0.5μm或以下，优选0.3μm或以下，更优选0.2μm或以下的CeO₂类微粒子。若使用含有平均粒径比0.5μm大的研磨材料的研磨液研磨玻璃基板时，则表面粗糙度变大，不能够生产出作为本发明目的的表面缺陷少，表面粗糙度极低的具有平滑表面的玻璃基板。

可以在本发明制造方法的精加工抛光工艺中使用的CeO₂类研磨材料，可以举出高纯度CeO₂,CeO₂和稀土元素氧化物的混合物，CeO₂和SiO₂的混合物，美国专利5,766,279说明书公开的由氧化铈和氧化硅形成的固溶体等。这种固溶体可以以所需的极微细粒子以市售品买到，而且因为在水中的分散性良好，所以特别适用于本发明。这种固溶体优选使用由100重量份的氧化铈和0.1-10重量份氧化硅形成的固溶体。