[发明专利]CMOS半导体集成电路无效

专利信息
申请号: 00107261.7 申请日: 2000-04-30
公开(公告)号: CN1273437A 公开(公告)日: 2000-11-15
发明(设计)人: 生驹平治;稻垣善嗣;小西博之;冈浩二;松泽昭 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L21/82
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 数字电路部分中的通过双栅极加工工艺而制成的CMOS反相器,备有其栅极由P型多晶硅形成的P沟道场效应晶体管。该P沟道场效应晶体管的源极接在电源上,且该P沟道场效应晶体管的反向栅极直接接在该源极上。当在低功耗模式下上述电源被切断后,P沟道场效应晶体管便处于不起晶体管之作用的状态。为防止该P沟道场效应晶体管的特性在该模式下变坏,而设置了在该模式下,能将该P沟道场效应晶体管的栅极电压固定为0的下拉开关。
搜索关键词: cmos 半导体 集成电路
【主权项】:
1.一种半导体集成电路,其中:该半导体集成电路备有P沟道场效应晶体管(FET),该晶体管中有漏极、源极、由P型半导体形成的栅极以及反向栅极,且正常工作时能将某一电压从电源加到上述源极上,还能将表示输入信号的电压加到上述栅极上,还备有一控制手段,它能响应在上述半导体集成电路的低功耗模式下被确定的控制信号,至少来控制上述栅极电压和上述反向栅极电压中之一,以使上述栅极电压不会高于上述反向栅极电压,从而保护处于不起晶体管之作用的状态的上述P沟道场效应晶体管免遭破坏。
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