[发明专利]研磨浆液及其用途有效
| 申请号： | 00102820.0 | 申请日： | 2000-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN1313374A | 公开（公告）日： | 2001-09-19 |
| 发明（设计）人： | 蔡明雄 | 申请（专利权）人： | 长兴化学工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 甘玲 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于半导体及IC制造过程的研磨浆液,其包含氧化铈、铝的氢氧化物、铈的盐类、及水,本发明的研磨浆液视需要可进一步包含酸性物质,以使本发明浆液具有小于5之酸碱值。本发明的研磨浆液特别适用于半导体或IC制造过程之浅沟槽绝缘处理中作为绝缘介电层的研磨剂。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 浆液 及其 用途 | ||
【主权项】：
1、一种研磨浆液，其包含CeO2、铝的氢氧化物、铈的盐类及水，及视需要包含酸性物质以使研磨浆液具有小于5的pH值。
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