[发明专利]研磨浆液及其用途

权利要求书

1、一种研磨浆液，其包含CeO₂、铝的氢氧化物、铈的盐类及水，及视需要包含酸性物质以使研磨浆液具有小于5的pH值。

2、根据权利要求1所述的浆液，其中以100重量份水计，该CeO₂的用量范围为0.5至10重量份。

3、根据权利要求1所述的浆液，其中该铝的氢氧化物选自勃姆石、类勃姆石、铝溶胶、氢氧化铝或两或多种此等物质的混合物。

4、根据权利要求1所述的浆液，其中以100重量份水计，该铝的氢氧化物的用量范围为0.1至5重量份。

5、根据权利要求1所述的浆液，其中该铈的盐类是水溶性盐类。

6、根据权利要求5所述的浆液，其中该铈的盐类选自硝酸铈铵、硫酸铈、氯化铈、碳酸铈或其混合物。

7、根据权利要求1所述的浆液，其中以100重量份水计，该铈的盐类的用量范围为0.01至2重量份。

8、根据权利要求1所述的浆液，其中该酸性物质选自硝酸、盐酸、醋酸、磷酸、硫酸或其混合物。

9、一种用于半导体或集成电路制造过程中研磨浅槽绝缘层的方法，其包含以一研磨浆液研磨该浅槽绝缘层，该研磨浆液包含CeO₂、铝的氢氧化物、铈的盐类、及水，及视需要包含酸性物质以使研磨浆液具有小于5的pH值。

10、根据权利要求9所述的方法，其中以100重量份水计，该研磨浆液包含0.5至10重量份的CeO₂。

11、根据权利要求9所述的方法，其中该铝的氢氧化物是选自勃姆石、类勃姆石、铝溶胶、氢氧化铝或两或多种此等物质的混合物。

12、根据权利要求9所述的方法，其中该研磨浆液以100重量份水计，包含0.1至5重量份的该铝的氢氧化物。

13、根据权利要求9所述的方法，其中该铈的盐类是水溶性盐类。

14、根据权利要求13所述的浆液，其中该铈的盐类选自硝酸铈铵、硫酸铈、氯化铈、碳酸铈或其混合物。

15、根据权利要求9所述的方法，其中该研磨浆液以100重量份水计，包含0.01至2重量份该铈的盐类。

16、根据权利要求9所述的方法，其中该酸性物质选自硝酸、盐酸、醋酸、磷酸、硫酸或其混合物。