[发明专利]在衬底加工系统中减少衬底污染的方法与装置

权利要求书

1．在衬底加工系统中减少衬底污染的装置，包括：

衬底支架；

包围所述衬底支架的气体引导护罩；和

垂直布置在衬底支架和气体引导护罩上方的遮蔽环。

2．根据权利要求1的装置，其中，所述衬底支架还包括第一组风口，用于提供边缘清除气流。

3．根据权利要求2的装置，其中，所述衬底支架还包括第二组风口，用于提供背面清除气流。

4．根据权利要求3的装置，其中，气体引导护罩和衬底支架确定一个环形通道。

5．根据权利要求4的装置，其中，所述环形通道与所述衬底支架内的第一组风口配合。

6．根据权利要求1的装置，其中，所述遮蔽环还包括具有径向向内延伸的内边缘的上表面。

7．根据权利要求6的装置，其中，多个对中短柱布置在所述遮蔽环的内边缘下面。

8．根据权利要求7的装置，其中，所述多个对中短柱为12个。

9．根据权利要求6的装置，其中，所述遮蔽环还包括多个导管，从所述遮蔽环的上表面向侧壁延伸。

10．根据权利要求9的装置，其中，所述多个导管是40个。

11．在衬底加工系统中减少衬底污染的方法，所述系统包括一个室，一个衬底支架，它具有在所述室内的第一和第二组风口，一种气体引导护罩，它包围所述衬底支架并与其确定一个环形通道，和一种垂直布置在所述衬底支架和气体引导护罩上方的遮蔽环，用于挡住所述衬底，所述方法包括下列步骤：

(a)在所述衬底支架上提供衬底；

(b)施加第一种气流，使衬底在衬底支架上升起；和

(c)施加第二种气流，保持所述衬底的热控制。

12．根据权利要求11方法，还包括在步骤(b)之后，但是在步骤(c)之前，在所述衬底支架上使所述衬底对中的步骤。

13．根据权利要求12的方法，其中，所述在衬底支架上使衬底对中的步骤还包括：升起衬底支架，靠近所述遮蔽环，从而使未对中的衬底通过与遮蔽环的侧壁接触并水平移动，与所述衬底支架和遮蔽环轴向对齐。

14．根据权利要求12的方法，其中，所述第一种气流是流过第一组风口和所述环形通道的边缘清除气体，建立两种通过所述衬底边缘的路径。

15．根据权利要求14的方法，其中，所述第一种路径通过在所述遮蔽环内提供的多个风口，来减少在遮蔽环上表面上的淀积。

16．根据权利要求14的方法，其中，所述第二种路径在所述遮蔽环与衬底之间，控制衬底上的边缘排除区域的尺寸。

17．根据权利要求11的方法，其中，所述第二种气流是一种背面清除气体，通过在所述衬底支架内的第二组风口，用于在衬底支架与衬底背面之间传递热量，并减少与衬底背面接触的污染物。

18．根据权利要求11的方法，其中，来自第一种气流的气体选自由氩气、氢气和氮气组成的组中。

19．根据权利要求11的方法，其中，来自第二种气流的气体悬自由氩气、氢气和氮气组成的组中。