[发明专利]从废水中除去金属离子

权利要求书

1．一种从废水中除去金属离子的方法，包括：

(a)提供用于接收在溶液中含有金属离子的废水进料的碳床，其中所说的废水进料含有大小范围约为0.01-1.0μm浓度高于约50毫克/升的固体粒子；以及

(b)提供用于接收从所说的碳床产生的碳床产物并从溶液中除去所说的金属离子的化学沉淀单元操作。

2．根据权利要求1的从废水中除去金属离子的方法，其中所说的废水含有浓度高于约100毫克/升的固体粒子。

3．根据权利要求1的从废水中除去金属离子的方法，其中所说的废水含有浓度范围约为500-2000毫克/升的固体粒子。

4．根据权利要求1的从废水中除去金属离子的方法，进一步包括将在溶液中含有过氧化氢和金属离子的废水进料流经所说的碳柱以降低所说的过氧化氢的浓度并形成过氧化氢浓度少于约1毫克/升(1ppm)的碳床流出物。

5．根据权利要求4的从废水中除去金属离子的方法，其中所说的金属离子包括铜离子。

6．根据权利要求5的从废水中除去金属离子的方法，其中所说的废水含有铜离子浓度范围约为1-100毫克/升。

7．根据权利要求5的从废水中除去金属离子的方法，其中所说的提供化学沉淀单元操作的步骤包括，将所说的碳床产物物流金属离子中的金属离子与有机氨基甲酸盐接触，以沉淀所说的铜离子。

8．根据权利要求5的从废水中除去金属离子的方法，其中所说的提供化学沉淀单元操作的步骤包括将所说的碳床产物物流金属离子与二硫代氨基甲酸盐接触以沉淀所说的铜离子。

9．根据权利要求5的从废水中除去金属离子的方法，其中所说的提供化学沉淀单元操作的步骤包括将所说的碳床产物物流金属离子与硫酸亚铁(FeSO₄)或硫酸铝[Al₂(SO₄)₃]接触以共沉淀所说的铜离子。

10．根据权利要求5的从废水中除去金属离子的方法，其中所说的废水进料包括副产物抛光浆。

11．根据权利要求10的从废水中除去金属离子的方法，其中所说的废水进料包括集成电路微芯片的化学机械抛光(CMP)处理产生的副产物抛光浆。

12．从废水中除去金属离子的设备，包括：

(a)用来接收在溶液中含有金属离子的废水进料的碳床，其中所说的废水进料含有固体粒子大小范围约为0.01-1.0μm浓度高于约100毫克/升；以及

(b)用于接收从所说的碳床产生的碳床产物物流并从溶液中除去所说的金属离子的化学沉淀单元操作。

13．根据权利要求12的从废水中除去金属离子的设备，其中所说的废水含有固体粒子浓度高于约500毫克/升。

14．根据权利要求12的从废水中除去金属离子的设备，其中所说的废水含有过氧化氢，所说的碳床产物物流的过氧化氢浓度小于约1毫克/升(1ppm)。

15．根据权利要求14的从废水中除去金属离子的设备，其中废水包括副产物抛光浆，所说的金属离子包括所说的副产物浆中的铜离子。

16．根据权利要求15的从废水中除去金属离子的设备，其中所说的废水包括来自集成电路的化学机械抛光(CMP)处理的副产物抛光浆，所说的金属离子包括浓度范围约为1-100毫克/升的铜离子。

17．根据权利要求15的从废水中除去金属离子的设备，其中所说的化学沉淀单元操作包括将所说的碳床产物物流金属离子与有机氨基甲酸盐接触，以沉淀所说的铜离子的有机化学装置。

18．根据权利要求15的从废水中除去金属离子的设备，其中所说的化学沉淀单元操作包括将所说的碳床产物物流金属离子与二硫代氨基甲酸盐接触以沉淀所说的铜离子的有机化学装置。