[发明专利]清理和涂刷挤压头的设备和方法

权利要求书

1．一种对一涂覆操作准备一挤压头的设备，所述设备包括：

用于清理挤压头的装置；

用于对挤压头涂刷的装置；

用于在一小范围中并便于一涂覆设备而设置清理装置和涂刷装置的装置，以使在涂覆操作之间快速准备挤压；以及

用于使挤压头能接近准备设备的装置。

2．如权利要求1所述的设备，其特征在于，清理装置包括用于擦拭挤压头的装置。

3．如权利要求1所述的设备，其特征在于，清理装置包括用于冲洗挤压头的装置。

4．如权利要求1所述的设备，其特征在于，清理装置包括：

擦拭装置；以及

冲洗装置。

5．如权利要求1所述的设备，其特征在于，准备设备设置在一涂覆设备中。

6．如权利要求1所述的设备，其特征在于，准备设备设置在一个可去除地连接在一涂覆设备上的框架上。

7．如权利要求1所述的设备，其特征在于，涂刷装置包括当挤压头位于一个容器之上时从挤压头挤压涂覆材料而收集所述涂覆材料的装置。

8．如权利要求1所述的设备，其特征在于，涂刷装置包括当挤压头位于一个清理挤压头的装置之上时从挤压头挤压涂覆材料的装置。

9．如权利要求1所述的设备，其特征在于，涂刷装置包括从挤压头挤压涂覆材料到一相对于所述挤压头可移动的涂刷表面，从而形成一相对可移动的涂刷表面。

10．如权利要求1所述的设备，其特征在于，还包括将挤压头放置在要涂覆的一个表面之上基本与挤压头相等高度的所述涂刷表面之上的一个高度上的装置。

11．如权利要求9所述的设备，其特征在于，相对可移动的涂刷表面是一个转动缸体，所述缸体具有两端。

12．如权利要求11所述的设备，其特征在于，转动缸体在两端被支撑并在两端之间由于重力而下垂。

13．如权利要求11所述的设备，其特征在于，转动缸体被选择和支撑成可以与在使用所述转动缸体要涂刷的一个分配头中预期的下垂一致而下垂。

14．如权利要求11所述的设备，其特征在于，缸体设置在一个溶剂池中。

15．如权利要求14所述的设备，其特征在于，还包括缸体清理装置。

16．如权利要求15所述的设备，其特征在于，缸体清理装置包括一个与所述缸体接触并可相对其转动的涂刷。

17．如权利要求9所述的设备，其特征在于，涂刷装置容装在一个涂刷站中，所述设备还包括将所述涂刷装置移入一个所述挤压头可接近的位置中的装置。

18．如权利要求9所述的设备，其特征在于，还包括分解从所述挤压头挤压出的所述涂覆材料的装置。

19．如权利要求2所述的设备，其特征在于，擦拭装置包括利用至少一个擦拭装置和所述挤压头之间的机械接触清理所述挤压头的装置。

20．如权利要求19所述的设备，其特征在于，所述擦拭装置包括用于靠在所述挤压头上要清理的一个表面上转动至少一个涂刷的装置。

21．如权利要求20所述的设备，其特征在于，还包括用于清理所述至少一个涂刷的装置。

22．如权利要求20所述的设备，其特征在于，所述擦拭装置还包括：

一个溶剂池；以及

用于将溶剂导向所述至少一个涂刷和所述挤压头之间的一个接触区的装置。

23．如权利要求22所述的设备，其特征在于，用于引导溶剂的装置包括加热溶剂的装置。

24．如权利要求20所述的设备，其特征在于，所述至少一个涂刷包括两个涂刷。

25．如权利要求3所述的设备，其特征在于，冲洗装置是一个冲洗站，包括：

一个盛放冲洗流体的流体容器；以及

用于将所述流体导向挤压头的装置。

26．如权利要求25所述的设备，其特征在于，还包括在所述流体与挤压头接触之前加热冲洗流体的装置。