[发明专利]磁性能优良的取向性硅钢片及其生产方法

权利要求书

1.一种取向性硅钢片，其特征在于，在该钢片的两个表面上形成直线或虚线状的槽和/或热影响层。

2.一种取向性硅钢片，其特征在于，在该钢片两个表面上的完全相同的或略有偏差的位置上形成直线或虚线状的槽和/或热影响层。

3.一种取向性硅钢片，其特征在于，在该钢片两个表面上的完全相同或略有偏差的位置上形成直线或虚线状的槽和/或热影响层，该槽和/或该热影响层的形成位置的偏差小于该槽和/或该热影响层在滚轧方向上的宽度。

4.如权利要求1～3任一项所述的取向性硅钢片，其特征在于，所述的在该钢片的至少一个表面上形成的直线或虚线状的槽的深度不大于钢片厚度的5％。

5.一种取向性硅钢片的生产方法，其特征在于，直线或虚线状的槽和或热影响层是通过照射高密度能量光束而在该硅钢片的两个表面上形成的。

6.一种取向性硅钢片的生产方法，其特征在于，通过照射高密度能量光束而在硅钢片两个表面上的完全相同或略有偏差的位置上形成直线或虚线状的槽和/或热影响层。

7.一种取向性硅钢片的生产方法，其特征在于，通过照射高密度能量光束而在硅钢片两个表面上的完全相同或略有偏差的位置上形成直线或虚线状的槽和/或热影响层，该槽和/或热影响层的形成位置偏差小于该槽和/或该热影响层在滚轧方向上的宽度。

8.如权利要求5～7任一项所述的取向性硅钢片的生产方法，其特征在于，在该硅钢片的两个表面上或其中一个表面上形成其深度不大于硅钢片厚度的5％的直线或虚线状的槽。

9.如权利要求5～7任一项所述的取向性硅钢片的生产方法，其特征在于，用激光来形成所述的高密度能量光束。

10.如权利要求5～7任一项所述的取向性硅钢片的生产方法，其特征在于，用激光形成所述的高密度能量光束，并在该硅钢片的两个表面上或其中一个表面上形成其深度不大于硅钢片厚度的5％的直线或虚线状的槽。