[发明专利]具有带永磁配置结构的阴极的溅射装置有效
| 申请号: | 99119789.5 | 申请日: | 1999-08-10 |
| 公开(公告)号: | CN1248640A | 公开(公告)日: | 2000-03-29 |
| 发明(设计)人: | D·哈斯;J·克雷姆佩尔-赫瑟;W·布施贝克 | 申请(专利权)人: | 莱博德系统股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨松龄 |
| 地址: | 联邦德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 永磁 配置 结构 阴极 溅射 装置 | ||
1.一种通过永磁配置结构而具有磁强化功能的溅射装置,所述的永磁配置结构设置在背向一个中央阴极溅射面的中央阴极侧面上且它产生了一个其磁力线在溅射面上方经过并穿透它的磁场,所述溅射装置具有一个至少部分由溅射面构成的阴极和一个间隔设置在阴极前面的且用于产生一个电场的阳极,其中永磁配置结构由两列圆形的或椭圆形的且本身分别相连的同轴单磁铁(5,5’…6,6’…)构成,它们通过一个磁轭(9)相连,其特征在于,在这两个永久磁铁列(7,8)之间设有一个其形状与磁轭(10)匹配的且横截面优选地成U形的由磁铁材料制成的部件(10),其背向中央阴极(3)的背面靠在面向中央阴极(3)的且由永久磁铁列(7,8)限定的磁轭(9)面上,其中U形部件(10)的两个支脚分别在指向中央阴极(3)的方向上与永久磁铁列(7,8)间隔地延伸。
2.一种通过永磁配置结构而具有磁强化功能的溅射装置,所述的永磁配置结构设置在背向一中央阴极的溅射面的中央阴极侧面上且它产生了一个其磁力线在溅射面上方经过并穿透它的磁场,所述溅射装置具有一个至少部分由溅射面构成的阴极和一个间隔设置在阴极前面的且用于产生一个电场的阳极,其中永磁配置结构是有两个圆形的或椭圆形的且本身分别相连的同轴单磁铁(5,5’…;6,6’…)列(7,8)构成,它们通过一个磁轭(15)相连,其特征在于,背向永久磁铁列(7,8)的中央阴极(3)面由两个相对曲折延伸的分型面(3a,3b)构成,由这两个分型面(3a,3b)共同构成的边缘(3c)平行于永久磁铁(5,5’…;6,6’…)列(7,8),在磁轭(15)和转向磁轭(15)的中央阴极(3)面之间插入一个由磁铁材料制成的部件(14)。
3.如权利要求1和/或2所述的溅射装置,其特征在于,背向径向靠内的永久磁铁列(7)的部件(14)表面是垂直于中央阴极面形成的,背向径向靠外的永久磁铁列(8)的部件(14)表面被设计成一个相对磁轭(15)面倾斜的表面(14a)。
4.如权利要求1-3之一所述的溅射装置,其特征在于,永久磁铁列(7,8)的单个的永久磁铁(5,5’…;6,6’…)被制成直棱柱体且优选地被制成正方体或长方体,它们的底边和侧边倾斜地指向中央阴极面。
5.如前述权利要求中的一项或多项所述的溅射装置,其特征在于,由磁铁材料制成的部件(10,14)具有一个基本扁平的圆环柱形形状,或者它被设计成一个大致扁平的椭圆形环,其中背向中央阴极(3)的磁铁材料制成部件(10,14)的表面内开设了一条槽或一条沟形凹道(11,16),它平行于永久磁铁列(7,8),径向限定槽(11,16)的部件(10,14)的两个分型面(10b,10c或14b,14c)密封地压在片材或一片薄膜(4)上,所述薄膜安插在中央阴极(3)和部件(10,14)之间且它与槽(11,16)一起限定出一条冷却剂流道。
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