[发明专利]废气吸附处理系统的再生方法

说明书

本发明为一种以溶剂清洗或萃取，将阻塞于吸附剂表面或孔道内的高沸有机物、聚合物或灰尘等以线上连续方式去除，以便吸附剂恢复吸附能力的废气吸附处理系统的再生方法。

吸附法是产业上广泛用来做为排气处理的一种方法，利用吸附剂多孔的性质，可将产业排气中挥发性有机气体、臭味或毒性气体产生物理或化学的吸附，而将之吸附于吸附剂的孔隙内，以达净化产业排气的目的。然而吸附剂在吸附饱和后，必须经由再生的程序，将充填于吸附剂内的被吸附质(例如挥发性有机分子、高沸点化学物质...，等)去除，才可重复使用。目前工业上最常采用的方法可分为线上再生或线外再生两种方法，线上再生通常是利用蒸汽或加高温的惰性气体将吸附于孔隙内的有机分子驱出，例如日本公开昭63-232823所揭示以蒸汽(110-175℃)脱吸附的方法，将吸附于活性碳内有机分子以蒸汽置换的方法脱出。又如英国专利Brii.1,546,437及德国专利Ger.Offen 2,419,827号所揭示以高温(120-300℃)情性气体，将吸附于活性碳内的被吸附质吹除；日本公开昭63-310636则教导以加热空气将吸附于沸石转轮内的有机物质去除的方法。线上再生的好处是可连续操作，且可避免繁杂的吸附剂装卸过程。唯此种再生方式对于高沸点的化学物质例如N-甲基-吡喀酮(N-MethvlPyrrolidone)、二甲亚砜(Dimeihyl Sulfoxide)；乙醇胺(2-Aminoethanol)；乙二醇(Ethylene glycol)，则往往无法有效的移除，造成其残留于吸附剂的孔隙内或分解或聚合成寡聚物而影响吸附剂再吸附的能力；此外如有易分解的化学品如四甲基二硅铵(HMDS)，三甲基硅烷(Trimethylsilanol)等遇水汽则分解为氢氧化硅的固体，残留于吸附剂的表面而造成吸附剂的吸附能力逐渐下降而无法将产业排气有效处理至环保法规规定的排放标准之内，此时唯有更换吸附剂，或将吸附剂由吸附槽内退出，采线外以更高温(通常为300-1000℃)直接加热或以高温含氧气体(例如蒸汽、一氧化碳或氧...，等)处理，将滞留于吸附剂孔隙内的高沸物质或聚合物烧除或分解，例如美国专利U.S.4,957,721；日本公开特许62-282639及63-156542...等所揭示的方法。此种方法虽可将滞留于吸附剂孔隙内的高沸点被吸附质有效的分解脱除，但往往易造成吸附剂孔洞结构的破坏而失去对特定物质的吸附能力，或因而劣化粉碎而损失。此外在吸附剂的装卸过程亦会有二次污染的问题存在。又如吸附系统是以转轮方式设计时，因限于转轮各吸附剂间周边封填物质的不耐高温特性，而必须将整个转轮解体成吸附剂原来的单元块状，焙烧再生后再行组合，非常的不方便。

为了改善现有吸附剂长期使用而老化不易再生的缺点，本发明的目的在于提供一种废气吸附处理系统的再生方法，其是以一溶剂清洗或萃取的方法，以连续线上再生的方式将吸附能力已降低而无法以一般的蒸汽、热空气或惰性气体再生的吸附剂或吸附系统再生，以延长吸附剂的使用期限。

本发明一种废气吸附处理系统的再生方法，其特征是以混合的溶剂直接以线上连续的方法将沉积于吸附剂表面或孔隙内的高沸点化学物质或寡聚体清洗、涤除而再生的方法。

其清洗溶剂为水、醇及酮的其中一种或二种以上的溶剂混合而成；其中醇是指碳数为一至四的直链醇或支链醇，酮是指碳数为一至四的直链、支链或环状酮或呋喃。

其清洗溶剂的比例为水∶醇为1∶0至1∶99；水∶酮为1∶0至1∶99，且温度为20-80℃的混合溶剂。

其清洗的方式为以喷嘴连续喷洒或浸泡的方式进行。

其吸附系统可为转轮式，流体化床式或固定床的型式。

其使用的吸附剂包括沸石、活性碳、高分子树脂及层状土。

其转轮吸附系统包括：直立式、卧式或圆柱式。

为进一步了解本发明的功效和特征，以下结合附图和实施例对本发明作一详细描述，其中：

图1为喷洒式再生系统的示意图；

图2为浸泡式再生系统的示意图。