[发明专利]薄膜二端元件、其制造方法和液晶显示装置

权利要求书

1.一种薄膜二端元件，其特征在于，由下述部分构成：

第1金属膜，起到布线层和第1电极的作用；

第1绝缘膜，在该第1金属膜的第1电极上形成，具有非线性电阻特性；

第2金属膜，在该第1绝缘膜上形成，起到第2电极的作用；以及

第3金属膜，其应力比在上述第1金属膜的布线层部分上形成的第1金属膜的应力小，而且，电阻小。

2.如权利要求1中所述的薄膜二端元件，其特征在于：

第1金属膜由铝或钽膜构成。

3.如权利要求1或2中所述的薄膜二端元件，其特征在于：

通过对第1金属膜进行阳极氧化来形成第1绝缘膜。

4.如权利要求1～3的任一项中所述的薄膜二端元件，其特征在于：

第3金属膜由钛、钼、银、铜、铝或这些金属的合金的膜构成。

5.如权利要求1～4的任一项中所述的薄膜二端元件，其特征在于：

在第3金属膜的已露出的表面上形成保护膜。

6.如权利要求1～5的任一项中所述的薄膜二端元件，其特征在于：

在绝缘性基板上被形成。

7.一种薄膜二端元件的制造方法，其特征在于，包含下述工序：

在绝缘性基板上形成起到布线层和第1电极的作用的第1金属膜的工序；

在该第1金属膜的至少布线层部分上形成第3金属膜的工序，该第3金属膜的应力比上述第1金属膜的应力小，而且，电阻小；

在上述第1金属膜的第1电极上形成具有非线性电阻特性的第1绝缘膜的工序；以及

在该绝缘膜上形成起到第2电极的作用的第2金属膜的工序。

8.如权利要求7中所述的薄膜二端元件的制造方法，其特征在于：

通过对第1金属膜进行阳极氧化来进行第1绝缘膜的形成工序。

9.如权利要求7或8中所述的薄膜二端元件的制造方法，其特征在于：

在与对第1金属膜进行阳极氧化来形成绝缘膜的工序的同时，在第3金属膜的表面上形成保护膜。

10.一种液晶显示装置，其特征在于，由下述部分构成：

在具备权利要求1～5的任一项中所述的薄膜二端元件的绝缘性基板上形成了与构成上述薄膜二端元件的第2电极连接的像素电极的元件侧基板；

在第2绝缘性基板上形成了对置透明电极的对置基板；以及

在上述元件侧基板与对置基板之间被夹住的液晶层。

11.一种薄膜二端元件，其特征在于：

在作为绝缘性基板的树脂基板上形成了下述部分：

第1金属膜，起到布线层和第1电极的作用；

第1绝缘膜，在该第1金属膜的第1电极上形成，具有非线性电阻特性；

第2金属膜，在上述第1绝缘膜上形成，起到第2电极的作用；以及

第2绝缘膜，在除了通过上述第1绝缘膜在与第1电极之间起到导电性的功能的部分外的上述第2金属膜的下部形成。

12.如权利要求11中所述的薄膜二端元件，其特征在于：

第2绝缘膜具有隔断从树脂基板发生的和/或经上述树脂基板通过的气体分子和/或液体分子的功能。

13.如权利要求11或12中所述的薄膜二端元件，其特征在于：

第2绝缘膜具有提高通过第1绝缘膜在与第1电极之间起到导电性的功能的上述第2电极的区域以外的第2电极中的电绝缘性的功能。

14.如权利要求11中所述的薄膜二端元件，其特征在于：

第1金属膜由铝或钽膜构成。

15.如权利要求11～14的任一项中所述的薄膜二端元件，其特征在于：

通过对第1金属膜进行阳极氧化来形成第1绝缘膜。

16.如权利要求11～15的任一项中所述的薄膜二端元件，其特征在于：

第1金属膜的布线层部分由层叠其应力比第1金属膜的应力小且电阻低的第3金属膜而构成。

17.如权利要求16中所述的薄膜二端元件，其特征在于：

在第3金属膜的已露出的表面上形成了保护膜。