[发明专利]1,5-二苯基吡唑衍生物无效

专利信息
申请号: 98809461.4 申请日: 1998-09-14
公开(公告)号: CN1271347A 公开(公告)日: 2000-10-25
发明(设计)人: 中村克哉;奥村和央;荻野隆;加藤毅;山本博文;寺坂忠嗣;野田由香 申请(专利权)人: 藤泽药品工业株式会社
主分类号: C07D231/16 分类号: C07D231/16;C07D231/12;A61K31/415
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王景朝,王其灏
地址: 日本大阪*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 苯基 吡唑 衍生物
【说明书】:

                       技术领域

本发明涉及新的具有药学活性的吡唑化合物及其盐;其制备方法;以及含有这些化合物的药物组合物。

                       背景技术

一些具有消炎止痛活性的吡唑衍生物是已知的,例如在下列文献中所述:加拿大专利1130808和EP专利公开248594、272704、293220、418845和554829,以及WO专利公开95/15315、95/15316、95/15317、95/15318、96/14302和97/15271。

                       发明公开

本发明的一个目的是提供新的具有环氧合酶-2抑制活性的吡唑化合物及其盐。

本发明的另一个目的是提供这类新吡唑化合物的制备方法。

本发明的再一个目的是提供含有吡唑化合物或其盐作为活性成分的药物组合物。

本发明还有一个目的是提供该新吡唑化合物及其盐在制备治疗或预防各种疾病的药物中的用途。

本发明涉及新的吡唑化合物及其盐,它们具有药物活性例如环氧合酶-2(下文中称之为COX-II)抑制活性,本发明还涉及这些化合物的制备方法,含有这些化合物的药物组合物及这些化合物的用途。

本发明的目的吡唑衍生物及其盐是新的并且可以用下列通式(I)表示,

其中R1是氯、二氟甲基、三氟甲基或氰基,并且

R2是具有以下结构的基团

    其中

    X是卤素、氰基、硝基或氨基,

    Y1是低级烷基或低级烷氧基,

    Y2是低级烷基或低级烷氧基,

    Y3是乙基、正丙基或异丙基,并且

    Z是氢或卤素。

可以通过以下方法1-4之一制备目的化合物(I)。方法1方法2方法3方法4参考方法其中R1和R2各自如上所述,

R1a是二氟甲基或三氟甲基,并且

R3是羧基或酯化羧基。

下面详细解释在本说明书上面和以后的描述中本发明范围内所包括的各种定义的合适的例子。

除非另外指明,术语“低级”是指具有1-6个碳原子的基团。

合适的“低级烷基”以及在术语“低级烷氧基”中的低级烷基部分可以是直链或支链的,例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、戊基和己基等,其中优选的是甲基。

合适的“低级烷氧基”可以是甲氧基和乙氧基等,优选的是甲氧基。

合适的“卤素”可以是氟、氯、溴和碘。

合适的“酯化羧基”可以是低级烷氧羰基,例如甲氧羰基、乙氧羰基和叔丁氧羰基等,其中优选的是乙氧羰基。

在化合物(I)中,优选下列化合物。式(I)化合物

其中R1是氯、二氟甲基、三氟甲基或氰基,并且

    R2是下式基团

其中X是卤素、氰基或硝基,

    Y1是低级烷基或低级烷氧基,

    Y2是低级烷基或低级烷氧基,并且

Z是氢或卤素。式(I)化合物其中R1是氯,并且

R2是下式基团

其中X是卤素或氰基,并且Y1是低级烷氧基。式(I)化合物其中R1是三氟甲基,并且

R2是下式基团

其中Y2是低级烷基,Z是氢。式(I)化合物其中R1是氯或三氟甲基,并且

R2是下式基团

其中Y3是乙基、正丙基或异丙基。

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