[发明专利]一种材料无效

专利信息
申请号: 98805014.5 申请日: 1998-05-13
公开(公告)号: CN1077457C 公开(公告)日: 2002-01-09
发明(设计)人: 理查德·埃德蒙多·托特 申请(专利权)人: 理查德·埃德蒙多·托特
主分类号: B05D7/00 分类号: B05D7/00;B22F1/02;B22F3/00;C22C29/00
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 白益华
地址: 美国佐*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 材料
【权利要求书】:

1.一种材料,它包括:

许多内核颗粒,所述内核颗粒主要由一种或多种金属化合物组成,所述金属化合物包括通式为MaXb的第一金属化合物,其中M是选自钛、锆、铪、钒、铌、钽、铬、钼、钨、和铝的金属或者M是硅,X代表一种或多种选自氮、碳、硼和氧的元素,a和b表示大于0,最大为4并包括4的数;

在每个所述内核颗粒上的一层中间层,它主要由与所述第一金属化合物的组成不同的第二金属化合物组成,第二金属化合物具有更高的相对断裂韧性并能与第一金属化合物相结合,还能与铁、钴或镍相结合,从而形成涂覆颗粒;以及

覆盖在带有中间层的所述涂覆颗粒上的一层粘合剂,该外部粘合剂层包括铁、钴、镍、它们的混合物、它们的合金或它们的金属间化合物。

2.如权利要求1所述的材料,其特征在于所述涂覆颗粒的平均粒径小于约2微米。

3.如权利要求1所述的材料,其特征在于所述涂覆颗粒的平均粒径小于约1微米。

4.如权利要求1所述的材料,其特征在于所述材料是密实的并被加热成烧结材料。

5.如权利要求4所述的材料,其特征在于烧结后所述中间层的厚度为内核颗粒直径的5-25%。

6.如权利要求4所述的材料,其特征在于所述中间层的厚度使一个涂覆颗粒中与位错有关的应变场穿过所述中间层,进入与其直接相邻的内核颗粒中。

7.如权利要求4所述的材料,其特征在于烧结后所述中间层的厚度为内核颗粒直径的3-200%。

8.如权利要求4所述的材料,其特征在于烧结后所述外层的厚度为所述涂覆颗粒直径的3-12%。

9.如权利要求4所述的材料,其特征在于所述外层的厚度使一个涂覆颗粒中与位错有关的应变场穿过所述粘合剂,进入与其直接相邻的中间层中。

10.如权利要求1所述的材料,其特征在于所述第一金属化合物主要由化学计量的化合物组成。

11.如权利要求1所述的材料,其特征在于所述第一金属化合物主要由选自TiN、TiCN、TiB2、TiC、ZrC、ZrN、VC、VN、Al2O3、和AlN的金属化合物或者化合物Si3N4组成。

12.如权利要求1所述的材料,其特征在于所述第二金属化合物主要由WC或W2C组成。

13.如权利要求1所述的材料,其特征在于部分所述中间层和所述粘合剂被除去,露出内部的所述内核颗粒。

14.如权利要求4所述的材料,其特征在于所述烧结材料的断裂韧性大于立方氮化硼的断裂韧性。

15.如权利要求1所述的材料,其特征在于所述材料是粉末,所述粉末包括所述内核颗粒,各内核颗粒具有所述中间层,在所述中间层上各自具有所述粘合剂外层。

16.如权利要求15所述的材料,其特征在于所述粘合剂外层主要由选自铁、钴、镍、它们的混合物、它们的合金或它们的金属间化合物的金属组成,所述粘合剂层以连续层的形式沉积在所述第二金属化合物层的外表面上。

17.如权利要求15所述的材料,其特征在于所述粘合剂外层是通过化学气相沉积法、阴极溅射、羰基沉积、溶液喷洒、化学镀、电镀或物理气相沉积法沉积的。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于理查德·埃德蒙多·托特,未经理查德·埃德蒙多·托特许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/98805014.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top