[发明专利]发射应答器装置的传输组件、发射应答器装置及其操作方法无效

专利信息
申请号: 98802131.5 申请日: 1998-01-27
公开(公告)号: CN1246189A 公开(公告)日: 2000-03-01
发明(设计)人: 曼弗雷德·里茨勒;罗伯特·维尔姆 申请(专利权)人: 阿马泰克先进微机及自动化技术有限两合公司;派福卡德有限公司
主分类号: G06K19/07 分类号: G06K19/07
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 徐泰
地址: 联邦德*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发射 应答器 装置 传输 组件 及其 操作方法
【权利要求书】:

1.一种用于在芯片(15、29、41)和读出装置(12)之间进行无接触数据传输的传输组件(14、26、44),所述传输组件具有线圈结构,它包括耦合元件(19、34)和至少一个天线线圈(20、35、46),该耦合元件和天线线圈在电气上互连,其特征在于,所述耦合元件用于产生至与所述芯片电气连接的发射应答器线圈(18、31、43)的电感性耦合(24),而所述天线线圈用于产生至所述读出装置的连接,并且作为耦合线圈(19、34)设计的所述耦合元件和所述天线线圈(20、35、46)在影响线圈阻抗的线圈参数方面具有不同的设计。

2.一种用于在芯片(15、29、41)和读出装置(12)之间进行无接触数据传输的传输组件(14、26、44、),所述传输组件具有线圈结构,它包括耦合元件(19、34)和至少一个天线线圈(20、35、46),该耦合元件和天线圈在电气上互连,其特征在于,所述耦合元件用于产生至与所述芯片电气连接的发射应答器线圈(18、31、43)的电感性耦合(24),而所述天线线圈用于产生至所述读出装置的连接,并且把所述耦合元件作为耦合线圈(19、34)设计,具体而言,如此进行设计,从而所述耦合线圈起着变压器(25)的初级线圈的作用,所述变压器由所述耦合线圈与相关联的所述发射应答器线圈(18、31)构成,用于在所述芯片(15、29、41)中感应出较高的电气工作电压。

3.如权利要求2所述的传输组件,其特征在于,所述耦合线圈(19、34)具有匝数n,此值比相关联的所述发射应答器线圈(18、31)的匝数少。

4.一种尤其是如权利要求2或3的用于在芯片(15、29、41)和读出装置(12)之间进行无接触数据传输的传输组件,所述传输组件具有线圈结构,它包括耦合元件(19、34)和至少一个天线线圈(25、35、46),该耦合元件和天线线圈在电气上互连,其特征在于,所述耦合元件用于产生至与所述芯片电气连接的发射应答器线圈(18、31、43)的电感性耦合(24),而所述天线线圈用于产生至所述读出装置的连接,并且把所述耦合元件作为耦合线圈(19、34)设计,而所述耦合线装有放大所述耦合线圈的磁场的放大器件。

5.如权利要求4所述的传输组件,其特征在于,所述放大器件由电压源构成,它增高或产生施加至所述耦合线圈的电压。

6.如权利要求4所述的传输组件,其特征在于,所述放大器件由导磁材料的芯子构成,它增高在所述耦合线圈处产生的磁场强度。

7.如权利要求6所述的传输组件,其特征在于,所述耦合线圈同时用于所述天线线圈(46)并具有作为芯子的导磁材料棒(45),以形成轴向对准的磁场。

8.如权利要求1至7之一条或多条权利要求所述的传输组件,其特征在于,把所述线圈结构(34、35)设置在基片(38)上,所述基片作为承载薄膜设计。

9.如权利要求8所述的传输组件,其特征在于,把所述线圈结构(34、35)作为卡片的插入物(30)设计。

10.如权利要求8所述的传输组件,其特征在于,把所述线圈结构设置在粘合基片上。

11.一种包括发射应答器单元(13、28、30、41)和传输组件(14、26、44)的发射应答器装置(11、39),其特征在于,所述发射应答器单元包括芯片(15、29、41),所述芯片具有与其电气连接的发射应答器线圈(18、31、43),而所述传输组件包括耦合元件(19、34),它具有天线线圈(20、35、46),其中,所述耦合元件用作产生与所述发射应答器线圈的电感性耦合,而所述天线线圈电气连接至所述耦合元件和用于产生与读出装置(12)的无接触连接,并且,为了能在所述发射应答器单元(13、28、30)来所述读出装置(12)之间匹配,作为耦合线圈设计的所述耦合元件(19、34)和天线线圈(20、35)至少对其影响线圈阻抗的线圈参数之一采用不同的设计。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于阿马泰克先进微机及自动化技术有限两合公司;派福卡德有限公司,未经阿马泰克先进微机及自动化技术有限两合公司;派福卡德有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/98802131.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top