[发明专利]显象管屏清洗设备及方法无效

专利信息
申请号: 98126080.2 申请日: 1998-12-31
公开(公告)号: CN1258927A 公开(公告)日: 2000-07-05
发明(设计)人: 董酉高;方克昊;任令章;蒋子论 申请(专利权)人: 上海永新彩色显象管有限公司
主分类号: H01J9/20 分类号: H01J9/20;H01J9/38;B08B3/02;B08B3/00
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 任永武
地址: 20023*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 显象管 清洗 设备 方法
【说明书】:

发明涉及一种显象管屏清洗装置以及一种显象管屏清洗方法。

在彩色显象管的生产中,屏内表面的清洗质量是至关重要的。在传统的工艺流程中并没有专门的屏清洗设备,屏清洗只是在光抗机设备中设置两次酸洗、两次纯水冲洗就算完成。由于屏的质量因生产技术水平问题而可能不稳定,因而屏的内表面通过二次酸清洗有时达不到工艺要求,从而影响产品的质量。而加大酸的浓度又会炽伤屏,并且酸清洗时施放出的酸雾对光抗机的腐蚀非常厉害,从而大大降低光抗机的使用寿命。另一方面,在传统的工艺中,后续的有机膜涂敷和蒸铝工序之后所报废的屏通常是通过稳定炉再回用工艺而进行重新利用的,其中的稳定炉是高耗能设备,因而回用成本相当高。

本发明的目的在于提供一种高清洗质量和高自动化程度的专用显象管屏清洗设备。

本发明的另一目的在于提供一种具有高清洗质量并适于清洗各种屏的显象管屏清洗方法。

按照本发明的一个方面所提供的一种显象管屏清洗设备,它包括:一设置在圆周中心的回转工作台;一连接于回转工作台的间歇分度机构;多个沿圆周方向围绕中心回转工作台顺序排列的屏清洗单元;一设置在屏清洗单元上游的上屏系统;一设置在屏清洗单元下游的下屏系统;一包括电气走线分线管路和供水供气管路的管路系统;以及一控制上述各系统动作的控制系统。

在上述设备中,诸屏清洗单元依次包括一洗净水预湿单元、两个氢氧化钠清洗单元、一洗净水冲洗单元、一氢氟酸清洗单元、一洗净水冲洗单元、一氢氟酸清洗单元、一洗净水冲洗单元、一氢氟酸清洗单元、两个洗净水冲洗单元、一回用纯水冲洗单元、两个离心脱水单元。

在上述设备中,在诸清洗单元的上游或下游处至少设置一个空位。

在上述设备中,纯水冲洗单元最好由一纯水回用箱供给回用纯水。

在上述设备中,在诸屏清洗单元的入口处设置一屏检测装置。

按照本发明的另一个方面所提供的一种显象管屏清洗方法,它依次包括下列步骤:至少一次氢氧化钠清洗;至少一次氢氟酸清洗;以及至少一次水冲洗。

在上述方法中,最好进行二次氢氧化钠清洗和三次氢氟酸清洗,以实现充分的洗净程度。并且,最好在每次氢氟酸清洗前后各加入一次洗净水冲洗。

在上述方法中,最好在氢氧化钠清洗前进行洗净水预湿。

在上述方法中,洗净水均可采用自来水。

在上述方法中,最后的水冲洗用纯水冲洗,该纯水可由光抗机用过的要排放的纯水经回收和过滤而成。

在上述方法中,在清洗过程末尾进行至少一次离心脱水。

本发明的显象管屏清洗设备及清洗方法具有以下优点。

一、本发明的设备将屏清洗工序独立于屏生产流程中的其它工序设置,因而使得在清洗过程中采用强腐蚀性清洗液成为可能,而不会有腐蚀其它工艺设备的危险,从而延长了工艺流程中有关设备的使用寿命。

二、本发明的设备采用了回转式的布局结构,因而便于实现较高的工作效率和自动化程度,并可节省设备占地面积。

三、本发明的方法在酸洗前加入了加温的氢氧化钠喷洗,因而可除去有机膜和铝膜,保证后续酸洗的质量,从而使整个清洗工序也适用于在有机膜涂敷和蒸铝后报废的立即回用屏。因此,整机的适用性能较强。

四、本发明的方法在氢氟酸清洗前后加入了水冲洗,这样不仅能够自由调节氢氟酸的浓度,而且还可防止屏的炽伤。另一方面,可使氢氟酸液体中垃圾的浓度大大减少,从而降低工作人员的日常维护保养,减少酸泵的磨损。

下面将参照附图来详细描述本发明的显象管屏清洗设备和清洗方法的较佳实施例,附图中:

图1是按本发明一较佳实施例的显象管屏清洗设备的平面示意图;

图2是沿图1中的A-A线剖开的剖视示意图;

图3是按本发明一较佳实施例的显象管屏清洗方法的各步骤的平面配置示意图,也是图1所示设备的各清洗单元的平面配置图。

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