[发明专利]双面写设备有效
| 申请号: | 98125995.2 | 申请日: | 1998-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN1226056A | 公开(公告)日: | 1999-08-18 |
| 发明(设计)人: | 卡斯米尔·M·德库萨蒂斯;劳伦斯·雅各博威兹 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
| 主分类号: | G11B7/00 | 分类号: | G11B7/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 于静 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 双面 设备 | ||
1.一种用于向记录介质的双面写入信息的设备,该记录介质易于由入射激光改变,所述设备特征在于包括:
一个激光光源;
用于控制所述激光光源的位置的装置;
第一光束分离器,用于把来自所述光源的激光分离成远侧光束和近侧光束,远侧光束用于在和所述光源相对的一侧的所述介质的部分上进行写,近侧光束用于处于和所述光源同侧的所述介质的近侧部分;
第二光束分离器,用于把所述近侧光束分离成用于在所述介质的所述近侧部分上写的第一光束以及用于跟踪的第二光束;
第一反射装置,用于把所述跟踪光束引向所述介质内的基准道边缘;
用于以振荡方式在频率ωT下穿过所述道来回地改变所述跟踪光束的入射点的装置;
一个光测器装置,被定位成接收来自所述第二光束分离器的部分光;
滤波器装置,用于提取其频谱在ωT邻域上的信号,以提供控制所述控制装置的控制信号,从而相对于所述介质中的所述基准道定位所述激光源;以及
第二反射装置,用于把来自所述第一光束分离器的所述远侧光束引向与所述光源相对的所述介质的所述侧。
2.根据权利要求1的设备,其特征在于,还包括位于所述远侧光束通路上的光闸装置。
3.根据权利要求1的设备,其特征在于,还包括位于所述第一光束的通路内的光闸装置。
4.根据权利要求1的设备,其特征在于,所述第二反射装置包括一个U型臂,该臂包括三个反射镜,它们被定向成把来自所述第一光束分离器的激光引导到所述介质的所述相对的一侧。
5.根据权利要求1的设备,其特征在于,所述第二反射装置包括一个用于支持设置在所述介质的相对二面上的若干臂的支承。
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