[发明专利]一种流体处理纱线的装置

权利要求书

1，一种流体处理纱线的装置，具有一喷嘴组件，一形成于喷嘴组件上并在喷嘴组件有一纱线入口和纱线出口的纱线通道，和在该喷嘴组件上形成的并在喷嘴组件的外表面上有一流体入口和在纱线通道的内侧表面上有一流体出口的流体通道，其特征在于，所述的流体通道具有一直通道和与所述纱线通道相通的扩展通道，并且，

(i)所述的直通道以这样的方式构成，即流体通道在垂直于流体通道轴线的截面的上的面积和构型在流体通道的轴向上的一个预定的范围内是恒定的，并且

(ii)所述的扩展通道位于所述的直通道的下游，并以这样的方式构成，即流体通道的宽度在平行于在参照线的方向上，从所述的直通道的一端到参考平面的流体出口端的范围内是逐渐增加的，而其中所述的参照线平行于第2轴线；所述的参照平面包括有第1轴线和所述的参照线；所述的第1轴线是所述的直通道的轴线；而所述的第2轴线是纱线通道的轴线；

(iii)所述的直通道在所述的参照平面上的所述第1轴线的方向上的长度，所述直通道的一端在平行于所述参照线的方向上的宽度，所述的扩展通道在所述第1轴线的方向上的长度满足下述公式(I)，

Ls＞Le＞2×WaSp                               ……(I)

其中Ls表示所述直通道的长度，Le表示所述扩展通道的长度，WaSp表示所述直通道的端部的宽度。

2.一种根据权利要求1所述的流体处理纱线的装置，其特征在于，在垂直于所述的参照平面的方向上，所述扩展通道的流体出口处的最大通道宽度基本上等于纱线通道在同一方向的最大通道宽度。

3.一种根据权利要求1或2所述的流体处理纱线的装置，其特征在于，所述直通道的一端在平行于所述参照线的方向上的宽度，所述的扩展通道在所述第1轴线的方向上的长度，以及所述的流体出口在平行于所述参照平面上的所述参照线的方向上的宽度满足下列公式(II)：

0°＜tan^-1{WaOf-WaSp)/(2×Le)}＜20°……(II)

其中WaOf表示流体出口的宽度。

4.一种根据权利要求1所述的流体处理纱线的装置，其特征在于，所述的参照线与所述的第2轴线一致。

5.一种根据权利要求4所述的流体处理纱线的装置，其特征在于，流体通道在垂直于所述参照平面的平面上和平行于所述参照线的方向上的形状是矩形的，并且纱线通道在垂直于所述参照平面的平面上和垂直于所述参照线的方向上的形状是矩形的。

6.一种根据权利要求1所述的流体处理纱线的装置，其特征在于，在垂直于所述第2轴线的平面上的纱线通道的截面区域至少在纱线入口或纱线出口上延伸。

7.一种流体处理纱线的装置，具有一喷嘴组件、一形成于喷嘴组件上并在喷嘴组件上有一纱线入口和纱线出口的纱线通道、和在该喷嘴组件上形成的并在喷嘴组件的外表面上有一流体入口和在纱线通道的内侧表面上有一流体出口的流体通道，其特征在于，所述的流体通道具有

(i)一直通道，其中，第一距离在沿流体通道的一定的范围内是恒定的，所述的第一距离是一个在第1垂直线的方向上从所述第1轴线到流体通道的壁表面的距离；所述的第1垂直线是一条垂直于所述第1轴线的直线；而所述的第1轴线是流体通道的轴线，和

(ii)一扩展通道，其中，第2距离在从直通道的一端到流体出口的范围内，至少在纱线入口的一侧或纱线出口的一侧是逐渐增加的，所述的第2距离是一个在第2垂直线的方向上从所述第1轴线到流体通道的壁表面的距离；所述的第2垂直线是一条垂直于参照平面上所述第1轴线的直线；而所述的第1轴线是所述直通道的轴线；所述的参照平面是一个含有所述第1轴线和含有一参照线的平面；所述的参照线是一条平行于第2轴线的直线；所述的第2轴线是纱线通道的轴线；

(iii)在垂直于所述的参照平面的方向上，所述扩展通道的流体出口处的最大通道宽度基本上等于纱线通道在同一方向的最大通道宽度。

8.如权利要求7所述的流体处理纱线的装置，其特征在于，所述参照线与所述第2轴线一致。

9.如权利要求8所述的流体处理纱线的装置，其特征在于，流体通道在垂直于所述参照平面的平面上和平行于所述参照线的方向上的形状是矩形的，并且纱线通道在垂直于所述参照平面的平面上和垂直于所述参照线的方向上的形状是矩形的。

10.根据权利要求7所述的流体处理纱线的装置，其特征在于，在垂直于所述第2轴线的平面上的纱线通道的截面区域至少在纱线入口或纱线出口上延伸。