[发明专利]利用定向片层而抗卷曲的照相材料无效

专利信息
申请号: 98108776.0 申请日: 1998-05-23
公开(公告)号: CN1201163A 公开(公告)日: 1998-12-09
发明(设计)人: D·N·海多克;T·S·古拉;R·P·波尔德莱斯;P·T·埃瓦德 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: G03C1/76 分类号: G03C1/76
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 周慧敏
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 利用 定向 卷曲 照相 材料
【权利要求书】:

1.一种照相材料,其包含纸片基、至少一层感光卤化银层、在所述片基纸和所述卤化银层之间的双轴定向聚合物片层和位于所述卤化银层背面上的所述片基纸的双轴定向聚合物片层,其中所述双轴定向片层和所述片基纸一起具有平衡力,从而使照相材料在相对湿度变化的宽范围内保持平整。

2.权利要求1的照相材料,其中所述双轴定向片层在照相材料横向上的强度大于机器方向上的强度。

3.权利要求1的照相材料,其中所述双轴定向片层在机器方向上的杨氏模量为690-5520Mpa,横穿机器方向上的杨氏模量为690-5520Mpa。

4.权利要求3的照相材料,其中在照相材料的上面和下面的所述双轴定向片层互相在机器方向的杨氏模量之比为1∶1至2∶1,互相在横向的杨氏模量之比为1∶1至2∶1。

5.权利要求4的照相材料,其中所述片基纸在机器方向上的杨氏模量为13800-2760Mpa,横向杨氏模量为6900-1380Mpa。

6.权利要求1的照相材料,其中横向上双轴定向片层和片基纸的结合卷曲抗性与机器方向上双轴定向片层和片基纸的结合卷曲抗性基本相同。

7.权利要求1的照相材料,其中每个所述双轴定向片层均包含固体密度百分数在约78-100%的层。

8.权利要求1的照相材料,其中在所述片基纸和所述感光卤化银层之间的定向片层包含固体密度百分数在约80-87%之间的微孔化聚烯烃片层。

9.权利要求8的照相材料,其中所述定向片层在每个表面包含表层。

10.权利要求5的照相材料,其中所述微孔化聚烯烃片层厚度在约0.0127至0.0635mm之间。

11.权利要求5的照相材料,其中所述微孔化聚烯烃片层包含含二氧化钛的层。

12.权利要求8的照相材料,在所述微孔化片层和所述片基纸之间还包含聚乙烯层。

13.权利要求5的照相材料,其中所述微孔化层的杨氏模量在约690-5516Mpa之间。

14.权利要求1的照相材料,其中两层双轴定向片层横向模量与片基纸横向模量的总和大约等于两层双轴定向片层机器方向模量与片基纸机器方向模量的总和,其中机器方向是照片涂层机器的移动方向。

15.一种用于成像的层合基底,其包含片基纸、在所述片基纸每一面的双轴定向片层,其中所述双轴定向片层和所述片基纸一起具有平衡力从而使该基底在相对湿度变化的宽范围内保持平整。

16.权利要求15的基底,其中所述双轴定向片层在照相材料横向上的强度大于机器方向上的强度。

17.权利要求15的基底,其中所述双轴定向片层在机器方向上的杨氏模量为690-5520Mpa,横穿机器方向上的杨氏模量为690-5520Mpa。

18.权利要求17的基底,其中位于照相材料的上面和下面的所述双轴定向片层在机器方向互相的杨氏模量之比为1∶1至2∶1,横向互相的杨氏模量之比为1∶1至2∶1。

19.权利要求18的基底,其中所述片基纸在机器方向上的杨氏模量为13800-2760Mpa,横向杨氏模量为6900-1380Mpa。

20.权利要求15的基底,其中横向上双轴定向片层和片基纸的结合卷曲抗性与机器方向上双轴定向片层和片基纸的结合卷曲抗性基本相同。

21.权利要求15的基底,其中每个所述双轴定向片层均包含固体密度百分数在约78-100%的片层。

22.权利要求15的基底,其中在所述片基纸和所述感光卤化银层之间的定向片层包含固体密度百分数在约80-87%之间的微孔化聚烯烃片层。

23.权利要求22的基底,其中所述定向片层在每个表面包含表层。

24.权利要求19的基底,其中所述微孔化聚烯烃片层厚度在约0.0127至0.0625mm之间。

25.权利要求19的基底,其中所述微孔化聚烯烃片层包含含二氧化钛的层。

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