[发明专利]正面喷墨单片集成热汽喷墨打印头及其制造方法

权利要求书

1．一种含墨水过滤器的单片集成热汽喷墨打印头，其特征为该打印头主要包括：

一块硅衬底，

一层从所说硅衬底上长出的硅外延层，

若干布置在所说硅外延层顶部的喷墨口，

若干与喷墨口相连的通墨毛细管，

一个与毛细管相通的墨水集流腔，

若干布置在毛细管顶部的加热电阻器，

一个与集流腔相通的墨水过滤器。

2．权利要求1所述的含墨水过滤器的单片集成热汽喷墨打印头，其特征是所说硅衬底为N-型掺杂低阻硅片。

3．权利要求1所述的含墨水过滤器的单片集成热汽喷墨打印头，其特征是所说硅外延层为N-型掺杂低阻硅外延层。

4．权利要求1所述的含墨水过滤器的单片集成热汽喷墨打印头，其特征是所说毛细管布置在所说硅外延层底部的硅衬底中。

5．权利要求1所述的含墨水过滤器的单片集成热汽喷墨打印头，其特征是所说集流腔布置在所说硅外延层底部的硅衬底中。

6．权利要求1所述的含墨水过滤器的单片集成热汽喷墨打印头，其特征是所说过滤器由所说硅衬底形成。

7．一种制造含墨水过滤器的单片集成热汽喷墨打印头的方法，其特征是制造步骤主要包括：

提供一块N-型掺杂高阻硅片；

在硅片表面层形成若干N-型高掺杂区；

在含有浓掺杂区的硅片表面形成一层N-型掺杂高阻外延层；

在外延层表面层形成若干P-型高浓度掺杂区；

在外延层表面形成抗氢氟酸腐蚀的导电复合层；

形成连接P-型浓掺杂区金属引线和与外电路连接的压焊块；

形成光照阳极氧化保护图形；

进行光照阳极氧化形成大量垂直孔群，穿过外延层和N-型浓掺杂埋

层，深入硅衬底；

形成无光照阳极氧化保护图形；

进行无光照阳极氧化将N-型浓掺杂埋层转变成多孔硅；

形成表面保护层；

形成喷口，垂直穿过保护层，抵达无光照阳极氧化形成的多孔硅层；

从硅衬底的背面减薄硅衬底，使露出光照阳极氧化形成的孔柱群；

选择性腐蚀过孔硅。

8．权利要求7所述制造含墨水过滤器的单片集成热汽喷墨打印头的方法，其特征是所说N-型硅衬底的掺杂浓度范围为10¹²-10¹⁶/cm³。

9．权利要求7所述制造含墨水过滤器的单片集成热汽喷墨打印头的方法，其特征是所说N-型高掺杂区的薄层电阻为3-20Ω/□。

10．权利要求7所述制造含墨水过滤器的单片集成热汽喷墨打印头的方法，其特征是所说N-型掺杂高阻外延层的掺杂浓度范围为10¹²-10¹⁶/cm³。

11．权利要求7所述制造含墨水过滤器的单片集成热汽喷墨打印头的方法，其特征是所说抗氢氟酸腐蚀的导电复合层为金/硅化钨复合层。

12．权利要求7所述制造含墨水过滤器的单片集成热汽喷墨打印头的方法，其特征是所说抗氢氟酸腐蚀的导电复合层为金/硅化铂复合层。