[实用新型]电动平面砂轮机的前护罩无效
申请号: | 97227929.6 | 申请日: | 1997-09-19 |
公开(公告)号: | CN2312786Y | 公开(公告)日: | 1999-04-07 |
发明(设计)人: | 刘文辉 | 申请(专利权)人: | 刘文辉 |
主分类号: | B24B7/00 | 分类号: | B24B7/00;B24B41/00 |
代理公司: | 中科专利代理有限责任公司 | 代理人: | 滕一斌 |
地址: | 台湾省台中*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 电动 平面 砂轮机 护罩 | ||
本实用新型是和砂轮机有关,特别是关于一种电动平面砂轮机的前护罩。
已用的电动平面砂轮机包含有:一壳体;一马达,设于壳体内;一砂轮,呈圆板形,枢设在壳体前端下方,受马达的驱转;一后护罩,略呈半圆形,底面透空,设于壳体下方,位于砂轮的上方后侧。使用者手持壳体,以凸伸在后护罩前方的砂轮进行研磨工作,该后护罩有遮挡研磨时往后飞溅的碎屑或火花,以保护使用者的功效。前述结构在砂轮真正研磨部位欲无任何遮档,因此使用时仍是火花四散飞溅,其护罩的效果不佳。
本实用新型的主要目的在于提供一种电动平面砂轮机的前护罩,其可与后护罩共同包覆住砂轮,且不影响研磨作业,而可有效减少研磨时的碎屑火花飞溅。
为达成上述目的,本实用新型的技术特征是在已用电动平面砂轮机的后护罩前方更提供一可往上掀起的前护罩,使前、后二护罩可共同包覆住砂轮顶面及周边,可防止砂轮研磨时火花或碎屑四处飞溅,且不会影响研磨作业。
兹举三实施例配合图式说明如下:
图1是本实用新型第一实施例的立体分解图。
图2是图1的组合立体图。
图3是第一实施例的使用示意图。
图4是沿图1中4-4剖线的局部放大剖视图。
图5是前护罩卡合定位的动作示意图。
图6是本实用新型第二实施例的组合立体图。
图7是本实用新型第二实施例的使用示意图。
图8是本实施新型第三实施例的分解立体图。
首先请参阅图1至图3所示,本实用新型第一实施例的电动平面砂轮机包含有:
一壳体10,略呈长形中空壳体。
一马达(图中未示),容置在该壳体10内。
一砂轮20,呈圆形,枢设在壳体10前端下方,受马达的驱转。
一后护罩30,略呈半圆形,底面透空,固设于壳体10下方,位于砂轮20的上方后侧,用以遮档研磨时往后飞溅的碎屑火花。
上述概为已知,本实用新型的特点在于:
该后护罩30两侧边各设一导沟31,二导沟31内端各设一枢接孔32。
一前护罩40,略呈半圆形,底面透空,两侧各延伸一弹性扣片41,该二扣片41内面同轴各凸设一凸柱42,用以嵌设枢接在该二枢接孔32中,且前护罩40顶壁具有二凸伸的肩部43,与后护罩30枢接后是位于其顶壁上方,使前护罩40可以该二凸柱42为枢轴往上掀起预定角度,且可归最原位,但不能向下偏摆。
至少一弹性元件50,是用以提供该前护罩40保持在原位的弹性回释力,本实施例设有二弹簧片50,一端固定在后护罩30,另一端供前护罩40的肩部43插入,而抵压在该肩部43上。
另外,该前护罩40的底端设有一横断面略呈圆形的端部44,以利于使用。
使用时,使用者手持壳体10,以砂轮20对工作件进行研磨,由于该前护罩40碰到物品时可自动往上掀起,因此不会影响正常操作。由于有前、后护罩40、30共同包覆住砂轮20,因此可有效的降低研磨时的碎屑或火花飞溅,可保护使用者眼晴或身体皮肤免受伤害。另外不管在平时、或使用中,或使用后而砂轮尚在旋转时,由于砂轮的顶面及周围被完全包覆往,因此不会有使用者或旁人误触砂轮而导致意外伤害。又,本实施例的前护罩40容易拆卸,遇到特殊场合,可将其卸下使用,完全没有其它不良影响。
此外,如图1、图4、图5所示,在前护罩40的二侧内边可各设一凸部45,而在后护罩30对应凸部45位置呈缺口状,在其上方则设凸出肩部33,在肩部33的底端设倒角34,如此,可造成前护罩40于平常活动角度范围内,凸部45不发生作用,但如欲将前护罩40固定于最大掀起角度,使其停止角度活动,只需将前护罩40往上扳,使凸部45经由倒角34爬上后护罩30顶壁上方,即可卡掣定位(如图5所示)。
如图6、图7所示,是本实用新型第二实施例,其是在已用平面砂轮机的后护罩60上枢设一可往上掀起的前护罩70,本实施例是在二护罩60、70的对接端各设凸耳61、71,并以一销72插接枢设,另外在销72上套设一扭力弹簧73,其二端分别抵住二护罩60、70顶壁,如此亦可达到与第一实施例相同的功效,唯一不同点在于前护罩70不方便拆卸。
又,如图7标号74所示,前护罩70底端的端部74可设成前后二侧边均倒角,其作用与第一实施例的圆形端部74相同,均是为使操作时,前护罩70不会与工作件产生卡掣而易于往上掀起。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于刘文辉,未经刘文辉许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/97227929.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。