[实用新型]可调式激光效果投射座无效

专利信息
申请号: 97209743.0 申请日: 1997-03-04
公开(公告)号: CN2303998Y 公开(公告)日: 1999-01-13
发明(设计)人: 虞廷立 申请(专利权)人: 耀进有限公司
主分类号: F21P5/02 分类号: F21P5/02
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 侯佳猷
地址: 中国*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 调式 激光 效果 投射
【权利要求书】:

1.一种可调式激光效果投射座,其特征在于:其主要是在一基座上枢设有一可相对基座呈水平横向转动的入射座,而在入射座相对于与基座的枢设轴上设置有一贯穿至入射座内部的入射孔,并在入射座内相对于入射孔的位置上设置有一呈特定角度倾斜的反射镜,又在入射座上方枢设有一可相对入射座呈垂直纵向转动的反射座,在入射座及反射座间则穿设有一相对于反射镜的透孔,并在反射座内相对于透孔的位置上设置有两可相对呈轴向垂直并且可分别受控制转动的图案扫描镜。

2.根据权利要求1所述的可调式激光效果投射座,其特征在于:所述基座的截面略呈形,在基座一侧面上穿设有一穿孔,在穿孔中穿设有一可螺入入射座的螺栓,又基座另侧自由端顶缘凹设形成有与穿孔相对的入射孔槽,并基座入射孔槽的相对外侧面上固设有一枢设下块,在枢设下块顶缘中央则凹设有一与入射孔槽相对并且可相互贯通的半圆弧形枢设凹槽,又在入射座的一侧面朝向基座入射孔槽垂直凸设有一容置于基座容置孔槽及枢设下块枢设凹槽的中空入射管,并且入射管中央呈贯通至入射座内部而形成一入射孔,另外在基座外侧枢设下块上方设置有一枢设上块,在枢设上块底缘则凹设有一相对于枢设下块枢设凹槽并可容置入射管的半圆弧形枢设凹槽。

3.根据权利要求1所述的可调式激光效果投射座,其特征在于:所述反射镜的设置角度为45度角。

4.根据权利要求1所述的可调式激光效果投射座,其特征在于:所述入射座顶面呈开口状,在入射座顶缘设置有一呈截面呈形而可用以封闭入射座顶端开口的枢盖,在枢盖顶缘相对于入射座中反射镜的位置上垂直向上凸设有一透孔管,在透孔管中央则形成贯穿至枢盖内部而与反射镜相对的透孔,在反射座底缘穿设有一可供透孔管贯穿的枢孔。

5.根据权利要求4所述的可调式激光效果投射座,其特征在于:在所述反射座枢孔的一侧穿设有一延伸至反射座周缘的迫紧槽缝,在反射座周缘螺入有可贯穿拧紧槽缝的螺栓。

6.根据权利要求4所述的可调式激光效果投射座,其特征在于:所述反射座的一侧面呈开口状而呈匚形截面,在反射座的开口侧面套设有一可封闭反射座开口侧面的外盖,在外盖上相对于两图案扫描镜的位置上设置有一透镜。

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