[发明专利]制备乙烯、α-烯烃和二烯烃的三元共聚物的方法无效
| 申请号: | 97196091.7 | 申请日: | 1997-05-01 |
| 公开(公告)号: | CN1224433A | 公开(公告)日: | 1999-07-28 |
| 发明(设计)人: | J·伦克马;M·F·H·范托尔;P·J·H·温德慕勒;J·A·M·范贝克 | 申请(专利权)人: | DSM有限公司 |
| 主分类号: | C08F210/18 | 分类号: | C08F210/18;C08F4/64 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 邰红,吴大建 |
| 地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 制备 乙烯 烯烃 三元 共聚物 方法 | ||
1.一种制备乙烯含量20-90%(重量),二烯烃含量最高30%(重量)和α-烯烃的三元共聚物的方法,包括在约-10℃-约220℃的温度和含有低氧化态的过渡金属配合物和共催化剂的催化剂存在下,进行乙烯、一种或几种α-烯烃和一种或几种二烯烃的聚合,其中所述的低氧化态的过渡金属配合物具有以下的结构:
其中:
M是选自元素周期表第4、5或6族低氧化态的过渡金属元素;
X是用式(Ar-Rt-)sY(-Rt-DR’n)q表示的多齿配位的单阴离子配位体;
Y是选自环戊二烯基、酰胺基(-NR’-)和膦基(-PR’-)者;
R是至少一个选自(ⅰ)Y基和DR’n基之间的连接基和(ⅱ)Y基和Ar基之间的连接基者,其中当配位体X含有一个以上的R基时,R基可以彼此相同或不同;
D是选自元素周期表第15或16族的给电子的杂原子;
R’是选自氢、烃基和含杂原子基的取代基,只是当R’是直接键合到给电子的杂原子D时,R’不能是氢,其中当多齿配位的单阴离子配位体X含有一个以上取代基R’时,取代基R’可以彼此相同或不同;
Ar是给电子的芳基;
L是键合到低氧化态的过渡金属元素M上的单阴离子配位体,其中单阴离子配位体L是不含有环戊二烯基、酰胺基(-NR’-)或膦基(-PR’-)的配位体,和其中单阴离子配位体L可以彼此相同或不同;
K是键合到低氧化态的过渡金属元素M上的中性或阴离子配位体,其中当过渡金属配合物含有一个以上配位体K时,配位体K可以彼此相同或不同;
m是配位体K的数目,其中当配位体K是阴离子配位体时,对于M3+,m为0,对于M4+,m为1和对于M5+,m为2,当配位体K是中性配位体时,对于每个中性配位体K,m增加1;
n是键合到给电子的杂原子D上的R’基的数目,其中当D是选自元素周期表第15族时n为2,当D是选自元素周期表第16族时n为1;
q和s分别是键合到Y基上的(-Rt-DR’n)基和(Ar-Rt-)基的数目,其中q+s是不小于1的整数;和
t是连接每个(ⅰ)Y和Ar基以及(ⅱ)Y和DR’n基的R基的数目,其中t是独立地选自0或1。
2.权利要求1的方法,其中Y基是环戊二烯基。
3.权利要求2的方法,其中环戊二烯基是未取代的或取代的茚基、苯并茚基或芴基。
4.权利要求2的方法,其中所述低氧化态的过渡金属配合物具有如下的结构:
其中:
M(Ⅲ)是氧化态为3+的元素周期表的第4族过渡金属元素。
5.权利要求2的方法,其中所述的低氧化态的过渡金属元素是钛。
6.权利要求2的方法,其中所述的给电子杂原子D是氮。
7.权利要求2的方法,其中DR’n基中的R’基是正烷基。
8.权利要求2的方法,其中所述的R基具有如下的结构:
(-CR’2-)p
其中p是1,2,3,或4。
9.权利要求2的方法,其中所述的单阴离子配位体L选自卤化物、烷基和苄基。
10.权利要求2的方法,其中Y基是二-、三-或四烷基-环戊二烯基。
11.权利要求2的方法,其中所述的共催化剂包括线形的或环状的铝氧烷或三芳基甲硼烷或硼酸四芳基酯。
12.权利要求2的方法,其中选自所述低氧化态的过渡金属配合物和所述共催化剂中的至少一种物质是负载在至少一种载体上。
13.权利要求1的方法,其特征在于所述三元聚合物的数均分子量Mn为100-30,000,以及该方法实施的温度为约30℃-约220℃。
14.权利要求1的方法,其特征在于聚合反应是在温度为约75℃-约220℃下进行的。
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