[发明专利]包括具有酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物

权利要求书

1．一种光刻胶组合物，包括一种光致酸引发剂、一种非必要的溶解抑制剂和一种包括其中至少一部分含酸不稳定侧基的多环重复单元的聚合物。

2．根据权利要求1的组合物，其中所述聚合物由一种或多种酸不稳定基取代的多环单体和非必要的选自中性基团取代的多环单体、羧酸基团取代的多环单体、烷基取代的多环单体及其混合物的单体聚合得到，其中所述酸不稳定单体由如下结构表示：其中R¹至R⁴独立地表示选自氢、直链和支化(C₁至C₁₀)烷基和基团-(CH₂)_nC(O)OR^*、-(CH₂)_nC(O)OR、-(CH₂)_n-OR、-(CH₂)_n-OC(O)R、-(CH₂)_n-OC(O)OR、-(CH₂)_n-C(O)R、-(CH₂)_nC(R)₂CH(R)(C(O)OR^**)和-(CH₂)_nC(R)₂CH(C(O)OR^**)₂的取代基，条件是R¹至R⁴中的至少一个选自酸不稳定基团-(CH₂)_nC(O)OR^*，R表示氢或直链和支化(C₁至C₁₀)烷基，m为0至5的整数，n为0至10的整数，和R^*表示选自-C(CH₃)₃、-Si(CH₃)₃、异冰片基、2-甲基-2-金刚烷基、四氢呋喃基、四氢吡喃基、3-氧代环己基、甲瓦龙酸内酯基、二环丙基甲基和二甲基丙基甲基的可由光致酸引发剂开裂的部分，R^**独立地表示R和R^*；其中所述中性基团取代的单体由如下结构表示：其中R⁵至R⁸独立地表示选自-(CH₂)_nC(O)OR″、-(CH₂)_nOR″、-(CH₂)_n-OC(O)R″、-(CH₂)_n-OC(O)OR″、-(CH₂)_n-C(O)R″、-(CH₂)_nC(R)₂CH(R)(C(O)OR″)和-(CH₂)_nC(R)₂CH(C(O)OR″)₂的中性取代基，其中R表示氢或直链和支化(C₁至C₁₀)烷基，R″表示氢、直链和支化(C₁至C₁₀)烷基、单环和多环(C₄至C₂₀)环脂族部分，环酯、环酮和环醚，条件是当R″为氢时，剩余R⁵至R⁸基团中的至少一个含有其中R″为(C₁至C₁₀)烷基的取代基，p为0至5的整数，n为0至10的整数；其中所述含羧酸基团的单体由如下结构表示：其中R⁹至R¹²独立地表示氢、直链和支化(C₁至C₁₀)烷基和通式-(CH₂)_nC(O)OH表示的羧酸取代基，条件是R⁹至R¹²中的至少一个为羧酸取代基，q为0至5的整数，n为0至10的整数；其中所述烷基取代的单体由如下结构表示：其中R¹³至R¹⁶独立地表示氢或直链或支化(C₁至C₁₀)烷基，条件是R¹³至R¹⁶中的至少一个为(C₁至C₁₀)烷基，r为0至5的整数。