[发明专利]新化合物无效

专利信息
申请号: 97191798.1 申请日: 1997-01-17
公开(公告)号: CN1209809A 公开(公告)日: 1999-03-03
发明(设计)人: 松尾昌昭;奥村和央;重永信次;西村弘昭;松田博;荻原大二郎;寺坂忠嗣 申请(专利权)人: 藤泽药品工业株式会社
主分类号: C07D417/04 分类号: C07D417/04;A61K31/42;C07D417/14
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 马崇德,周慧敏
地址: 日本大阪*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 化合物
【权利要求书】:

1.下式的化合物或其盐:

其中R1是低级烷基,

L是单键或选择性地被芳基、氧或羟基取代的低级亚烷基,和

Q是选择性地被一个或多个适合的取代基取代的杂环基;或芳基取代的低级烷氧基,所述芳基被一个或多个合适的取代基取代,至少一个取代基是选择性地被氰基、保护的羧基、羧基、低级亚烷基、选择性地被氧取代的杂环基或选择性地被羟基或低级烷氧基取代的脒基取代的低级烷氧基。

2.权利要求1的化合物,它具有下式:

其中-A1-A2-A3-是(a)-CR2=CR3-X-,(b)-N=N-NR4-或(c)-NR5-N=N-,

X是S、O或NR6,和

R2、R3、R4、R5和R6分别是氢或合适的取代基,

除了上述说明外,当R2和R3和与它们相连的碳原子一起时,形成选择性地被一个或多个合适取代基取代的芳环。

3.权利要求2的化合物,其中

R2和R3分别是氢或选自酰基、羧基、保护的羧基、芳基和选择性地被酰基、羧基、保护的羧基、卤素、杂环基团或氰基取代的低级烷基的取代基;

R4是氢或选择性地被芳基取代的低级烷基,所述芳基选择性地被羧基或保护的羧基取代,和

R5和R6分别与R4相同。

4.权利要求1的化合物,它具有下式:

其中Y是CR10或N,和

R7、R8、R9和R10分别是氢或合适的取代基,

除了上述说明外,当R7和R8和与它们相连的碳原子一起时,形成选择性地被一个或多个合适的取代基取代的芳环。

5.权利要求4的化合物,其中

R7和R8和与它们相连的碳原子一起形成环,和R7和R8由如下结构表示:

-CR11=CR12-CR13=CR14-,

R9是氢、氰基、酰基、羧基、保护的羧基、杂环基、选择性地被酰基、羧基或保护的羧基所取代的低级烷基或选择性地被羧基或保护的羧基所取代的低级烯基,

R10与R9相同,和

R11、R12、R13和R14分别是氢或选自酰基、羧基、保护的羧基、卤素、硝基、氨基、羟基、低级环烷氧基、选择性地被卤素、羟基、酰基、羧基或保护的羧基取代的低级烷基,和选择性地被氰基、杂环基、酰基、羧基、保护的羧基、低级亚烷基或选择性地被卤素、酰基、羟基或保护的羧基取代的芳基所取代的低级烷氧基的基团。

6.权利要求5的化合物,其中

其中Y是N

R9是杂环基,和

R11、R12、R13和R14之一是低级烷氧基,其它的均是氢。

7.权利要求1的化合物,其中

L是单健,和

Q是芳基取代的低级烷氧基,其中芳基被一个或多个相同或不同的烷氧基取代,后者烷氧基选择性地被羧基、保护的羧基、酰基、氰基、低级亚烷基、选择性地被氧取代的杂环基或选择性地被羟基或低级烷氧基取代的脒基所取代。

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