[发明专利]芳香族聚酰胺薄膜及其制备方法以及采用芳香族聚酰胺薄膜的磁记录媒体无效
| 申请号: | 97190689.0 | 申请日: | 1997-04-17 |
| 公开(公告)号: | CN1073923C | 公开(公告)日: | 2001-10-31 |
| 发明(设计)人: | 佃明光;堀内光弘;筑木稔博 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
| 主分类号: | B29C55/12 | 分类号: | B29C55/12;B32B27/34;C08J5/18;G11B5/73;//B29K7700;10516;B29L700;900;C08L7710 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 魏金玺,杨丽琴 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 芳香族 聚酰胺 薄膜 及其 制备 方法 以及 采用 记录 媒体 | ||
技术领域
本发明涉及芳香族聚酰胺薄膜,特别是适合用作磁记录媒体,和尤其是高密度磁记录媒体用薄膜的芳香族聚酰胺薄膜,并涉及该薄膜的制备方法以及采用该薄膜制备的磁记录媒体。
技术背景
对芳香族聚酰胺薄膜各种用途的研究一直在进行,以充分利用其优秀的耐热性和机械特性。特别是对位取代的芳香族聚酰胺,其刚性和强度等机械性能优于其他聚合物,因此它非常适用于制备更薄的薄膜,也考虑它在例如打印带、磁带和电容器等方面的应用。
近年来,随着数字记录技术的进步以及计算机外储存器的开发,对适用于薄膜化、高密度记录化和高耐久性磁记录媒体的薄膜的要求不断提高。也就是说,作为达到高输出的磁层,在形成超薄涂布型磁层和在薄膜上直接形成磁层的金属蒸发型磁层方面已有很大进展,但磁层的性能越好,对基膜达到高标准的平滑性、移动性和无缺欠性的要求就越高。此外,伴随磁层性能的进一步提高,薄膜的加工条件涉及更高的温度和速度等,由此使基膜的负荷增加。
然而,在采用芳香族聚酰胺薄膜时存在下列问题。首先,如果为提高薄膜的输出特性而将其表面制得更平滑,由于与磁头的摩擦,磁层往往脱落,而脱落的磁粉会堵塞磁头。此外,如果为提高这方面的耐久性而使表面粗糙,就不能获得高性能磁记录媒体所要求的输出特性,且磁头会被表面突起损坏。其次,如果为提供良好的运行性而使表面粗糙,则会导致将这种粗糙传递给磁层,造成磁记录媒体数据丢失。
迄今为止,作为芳香族聚酰胺薄膜用于磁记录媒体应用领域的实例,有的实例规定薄膜表面微小突起的高度、突起的粒径和数目(特开昭60-127523号公报),也有的实例规定薄膜表面微小突起的高度、突起的平均粒径和平坦性、突起的粒径和数目、以及突起的椭圆度和圆度(特开昭61-246919号公报)等等,但是,上述各实例中薄膜的输出特性和耐久性两者不能同时达到很高的水平,因此不能满足磁记录媒体最新进展的要求。
此外,在特开平3-113819号公报中公开了在非磁性基材上设置底涂层,在底涂层中存在凝聚块的磁记录媒体,但凝聚块很容易形成粗大突起,在这种情况下信号失落会很明显。另外,生产效率会由于采用底涂工序而降低。
另外,在特开平8-77554号公报中公开了在非磁性基板上设置底涂层,并规定该底涂层上突起的高度和数目的磁记录媒体,但该突起高度的规定不足以达到可满足磁记录媒体最新进展的很高水平的输出特性和耐久性,另外,生产效率会由于采用底层形成工序而降低。
作为对上述问题起因深入研究的结果,本发明者发现,芳香族聚酰胺薄膜表面突起的高度分布起重要作用,本发明者发现,通过突起的高度分布的最佳数值选定,输出特性和耐久性两者能够达到极高标准。本发明即以这一发现为基础。
发明内容
本发明的目的是提供芳香族聚酰胺薄膜,以及该薄膜的制备方法和利用该薄膜的磁记录媒体,当芳香族聚酰胺薄膜用作磁记录媒体的基膜时,通过利用该薄膜的耐热性和高刚性,并规定薄膜表面突起的高度分布,能够同时提供高标准的输出特性和耐久性。
具体而言,本发明涉及芳香族聚酰胺薄膜,其特征在于,在该薄膜的至少一面,高20nm-50nm突起的数目为103-108个/mm2,高50nm-100nm突起的数目为0-3×104个/mm2;本发明还涉及制备芳香族聚酰胺薄膜的方法,其特征在于,将粒径10-300nm的微粒分散于10泊以下的液体介质中形成的含微粒浆液加入芳香族聚酰胺溶液中,该微粒的添加量为芳香族聚酰胺的0.005-4.5%(重量),在从如此所得溶液制备芳香族聚酰胺薄膜的方法中,所述微粒粒径的相对标准偏差在0.8以下,此外,所用含微粒浆液的初始过滤性指数Q1和通过500ml液体后的过滤性指数Q2满足下式,
Q2/Q1≥0.3本发明也涉及采用上述芳香族聚酰胺薄膜的磁记录媒体。
发明的优选实施方案
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