[发明专利]还原羰基化合物的方法无效
| 申请号: | 97190044.2 | 申请日: | 1997-01-29 |
| 公开(公告)号: | CN1178517A | 公开(公告)日: | 1998-04-08 |
| 发明(设计)人: | 菅河忠志;诸岛忠;井上健二;菅和宪 | 申请(专利权)人: | 钟渊化学工业株式会社 |
| 主分类号: | C07B41/02 | 分类号: | C07B41/02;C07C29/143;C07C33/22;C07C213/00;C07C215/28;C07C271/10;C07C323/43;//C07M7∶00 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 白益华 |
| 地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 还原 羰基 化合物 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种还原羰基化合物的方法。
背景技术
在各种领域,羰基化合物的还原构成了一门十分重要的技术,例如在药的中间体的制备中。迄今为止,已知的还原羰基化合物的实践方法,会提到Meerwein-Ponndorf-Varley还原法(MPV还原法)和使用二异丁基氢化铝(DIBAH)的还原法。
MPV还原法是使用三烷氧基铝如Al(O-iPr)3作为还原剂或还原催化剂来还原羰基化合物的方法。由于所用的三烷氧基铝和醇如异丙醇价廉,故这种方法经常作为还原各种酮和醛的经济的方法[Organic Reactions(有机反应),volume 2,第178页(1944)]。
然而,这种使用三烷氧基铝的MPV还原法存在着问题。在低的反应温度下,反应趋于很慢地进行,这主要是因为上述试剂的活性低。为了提高反应速率和产率,需要较高的反应温度,如不低于50℃。因此,上述还原法不适合于还原不稳定的羰基化合物,或者在羰基化合物显示低活性的情况下,该还原反应即使升高反应温度也几乎不能进行。
在其它方法中,使用DIBAH还原羰基化合物的方法是工业上十分有用的方法,因为其具有优良的活性且十分经济。这一方法用于,例如还原由亮氨酸得到的α-氨基氯酮衍生物。当在-78℃下用DIBAH还原上述α-氨基氯酮衍生物,可优先得到赤型产物,其非对映体过量(diastereomer excess)约为75%[Tetrahedron Letters(四面体通讯),36,5453(1995)]。
此处所用的术语“赤型”指一种异构体,其中相邻氨基和羟基显示以下的相对构型:
然而,这一还原法需要十分低的温度以控制活性。而且,当该方法用于还原上述α-氨基氯酮衍生物时,不可能得到立体选择性(以非对映体过量表示)高至90%或更多。
关于用二异丁基氢化铝还原羰基化合物的反应,文献指出二异丁基烷氧基铝(diisobutylaluminum alkoxides)可能形成反应的中间体部分参加还原反应[Journal of Organic Chemistry(有机化学杂志),38,4232(1973)]。然而,从未有报道指出二烷基一烷氧基铝如二异丁基异丙氧基铝可能对羰基化合物的还原或立体选择性还原有效。同样地,从未有报道指出由二烷基氢化铝如二异丁基氢化铝和醇如异丙醇制备的还原剂可能对羰基化合物的还原或立体选择性还原有效。
鉴于以上所述,本发明的一个目的是提供一种在较温和的条件下把羰基化合物还原成相应的羟基化合物的简单方便的方法。另一个目的是提供一种用通常的三烷氧基铝几乎不能还原的某些羰基化合物的还原方法,尤其是一种立体选择性地还原α-氨基酮衍生物的方法。
发明的概述
本发明的要点是针对羰基化合物的还原,其包括通式(1)的羰基化合物与通式(4)的有机铝化合物反应,得到相应的通式(5)的醇化合物。
其中,通式(1)中,假如R1和R2中的一个是取代或未取代的含1至30个碳原子的烷基、取代或未取代的含7至30个碳原子的芳烷基或取代或未取代的含6至30个碳原子的芳基,则R1和R2各自表示取代或未取代的含1至30个碳原子的烷基、取代或未取代的含7至30个碳原子的芳烷基、取代或未取代的含6至30个碳原子的芳基、氰基、氢原子、通式(2)的基团或通式(3)的基团;
CHnX3-n (2)
通式(2)中,X表示卤素原子,n表示0至2的整数;
通式(3)中,Y表示烷氧基、芳烷氧基、取代或未取代的氨基或烷硫基(alkylthio group);
通式(4)中,R3和R4各自表示取代或未取代的含1至10个碳原子的烷基、取代或未取代的含7至20个碳原子的芳烷基或者取代或未取代的含6至20个碳原子的芳基,R5表示取代或未取代的含1至20个碳原子的伯烷基、取代或未取代的含1至20个碳原子的仲烷基、取代或未取代的含7至30个碳原子的伯芳烷基或者取代或未取代的含7至30个碳原子的仲芳烷基;
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